Title:
表面上のラフネス及び／又は欠陥測定のための測定装置並びに方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024515421
Kind Code:
A
Abstract:
調査されるサンプル表面の複数の表面区画上のラフネスや欠陥を測定するための装置は、表面の測定領域を測定光で照明する少なくとも２つの光源を有する照明デバイス、表面で散乱した散乱光を捕捉する複数の検出器ピクセルを備える検出器アレイを有する検出器デバイス、及び、表面の少なくとも１つのラフネス特徴を捕捉された散乱光から判定する評価デバイスを備える。少なくとも２つの光源は、測定領域を少なくとも２つの照明ビーム経路に沿って表面の表面法線に対して異なる入射角で照明し、検出器デバイスに対して固定され得る。検出器デバイスは、表面の測定領域を検出器アレイ上に結像する結像光学素子を有し、表面の表面法線に対して所定視野角で照明された測定領域内の表面区画の少なくとも２つの散乱光画像を検出する。散乱光のうち検出器ピクセルによって受光され照明ビーム経路の１つにおいて照明によって場合毎に形成される部分は、場合毎に共通の空間周波数を有する。評価デバイスは、表面区画の少なくとも１つのラフネス特徴を少なくとも２つの散乱光画像から判定する。【選択図】図１
Inventors:
von Fink, Alexander
Hulme, Simon
Markel, Ingo Jurgen
Neumann-Robisch, Maciej
Hulme, Simon
Markel, Ingo Jurgen
Neumann-Robisch, Maciej
Application Number:
JP2023550551A
Publication Date:
April 10, 2024
Filing Date:
March 03, 2022
Export Citation:
Assignee:
ASM L Netherlands B.V.
International Classes:
G01N21/95; G01B11/30; G01N21/17; G01N21/47; H01L21/683
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Akihiko Eguchi
Kazuhiko Naito
Toshifumi Onuki
Akihiko Eguchi
Kazuhiko Naito
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