Title:
銅板付きの窒化ケイ素セラミック基板の作製方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024506483
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、銅板付きの窒化ケイ素セラミック基板の作製方法に関し、前記銅板付きの窒化ケイ素セラミック基板の構造は、窒化ケイ素セラミック基板と、窒化ケイ素セラミック基板の上下両側に配置する銅板と、銅板と窒化ケイ素セラミック基板との間に配置する溶接層とを含み、前記窒化ケイ素セラミック基板の成分は窒化ケイ素相及び粒界相を含み、前記窒化ケイ素相の含有量≧９５ｗｔ％であり、前記粒界相は少なくともＹ、Ｍｇ、Ｏの３つ元素を含有する混合物であり、前記粒界相の含有量≦５ｗｔ％であり、且つ粒界相における結晶相の含有量≧４０ｖｏｌ％であり、作製された窒化ケイ素セラミック基板に使用される焼結助剤はＹ２Ｏ３とＭｇＯであり、両者のモル比は１．０～１．４：２．５～２．９であり、前記二段階焼結プロセスは、窒素雰囲気で、雰囲気圧力が０．５～１０ＭＰａであり、まず１６００～１８００℃で低温熱処理した後、さらに１８００～２０００℃で高温熱処理を行い、前記窒化ケイ素セラミック基板の厚さは０．２～２．０ｍｍである。【選択図】図１０
Inventors:
Liu Xuejian
Zhang Hui
Hidetoshi Yao
Liu Yan
Brother Jiang Jin
Masahito Huang
Chen Zhongming
Zhang Hui
Hidetoshi Yao
Liu Yan
Brother Jiang Jin
Masahito Huang
Chen Zhongming
Application Number:
JP2023543222A
Publication Date:
February 14, 2024
Filing Date:
January 17, 2022
Export Citation:
Assignee:
Chinese Academy of Sciences Shanghai Silicate Research Institute
International Classes:
C04B37/02; B22F1/00; B22F1/14; B23K35/30; C04B35/591; C22C5/08
Attorney, Agent or Firm:
Ariko Patent Office