Title:
薄膜付き基板の製造方法、薄膜付き基板、多層反射膜付き基板の製造方法、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024007417
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】薄膜付き基板に対して欠陥検査を行うときに識別記号の検出を行うことができ、薄膜付き基板の個体識別と、薄膜の欠陥情報と識別記号との対応付けを容易に行うことが可能な、薄膜付き基板の製造方法を提供する。【解決手段】基板と、該基板上に形成された薄膜とを含む薄膜付き基板の前記薄膜が形成されている側の表面であって、パターン転写に影響のない領域に、前記薄膜付き基板に固有の識別記号を有する前記薄膜付き基板に対して、欠陥検査を行うときに、前記薄膜の欠陥情報及び前記識別記号を検出する。これにより、前記薄膜付き基板の個体識別と、検出された前記薄膜の欠陥情報と前記識別記号との対応付けを行う。【選択図】図１
Inventors:
Kentaro Iwamoto
Tsutomu Shoki
Kenta Tsukagoshi
Masahiro Hashimoto
Tsutomu Shoki
Kenta Tsukagoshi
Masahiro Hashimoto
Application Number:
JP2023104244A
Publication Date:
January 18, 2024
Filing Date:
June 26, 2023
Export Citation:
Assignee:
HOYA Corporation
International Classes:
G03F1/24; G03F1/38; G03F1/84; H01L21/02; H01L21/66
Attorney, Agent or Firm:
Takeshi Otsuka