Title:
低い残留モノマー含有量を有するアルキル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーを製造する方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023554452
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、低い残留モノマー含有量を有するアルキル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーを製造する方法、この方法によって得られるアルキル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ならびに潤滑剤用途におけるそれらの使用に関する。
Inventors:
Frank-Oraf Mailing
Maria Stimeier
Thomas Schimmel
Stephan Karl Meier
Sophia Sirac
Maria Stimeier
Thomas Schimmel
Stephan Karl Meier
Sophia Sirac
Application Number:
JP2023537080A
Publication Date:
December 27, 2023
Filing Date:
December 17, 2021
Export Citation:
Assignee:
Evonik Operations GmbH
International Classes:
C08F2/00; C08F220/18; C08F289/00; C08L33/06; C08L91/00; C10M101/02; C10M105/32; C10M107/02; C10M145/14
Attorney, Agent or Firm:
Einzel Felix-Reinhard
Taku Morita
Junichi Maekawa
Hideo Nagashima
Ueshima class
Taku Morita
Junichi Maekawa
Hideo Nagashima
Ueshima class