Title:
水素化工程及び直接酸化工程によるガスからの硫黄化合物除去方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018510777
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、Ｈ２Ｓ、ＳＯ２、ＣＯＳ、ＣＳ２・・といった硫黄化合物を１５重量％まで含むガス、特にクラウスプロセスから出るガスから硫黄を除去する方法である。この方法は、硫黄化合物をＨ２Ｓにする第１水素化工程を含み、水素化するガスは酸化触媒床を再生するのに用いられ、いずれも２００−５００℃で行われる。硫黄除去の後、ガスは第２水素化工程にかけられ、次に直接酸化工程にかけられる。この工程は、生成した硫黄を触媒中にトラップするため、硫黄の露点未満で行われる。さらなるサイクルでは、使用して不活性化した触媒を再生するためにガス流が切り替えられる。好ましい実施形態は、この方法が、水素化触媒床とその（ガス流における）下流の直接酸化触媒床を含む少なくとも２つの同じ反応器で行われる。【選択図】図２
Inventors:
Male, Benoit
Application Number:
JP2017566205A
Publication Date:
April 19, 2018
Filing Date:
March 11, 2016
Export Citation:
Assignee:
PROSERNAT
International Classes:
B01D53/86; B01J21/06; B01J23/72; B01J23/745; B01J23/882; B01J23/883; B01J27/224; B01J38/00
Attorney, Agent or Firm:
Akio Miyazaki
Masaaki Ogata
Masaaki Ogata