塗布プロセスバイアスを補正するカラーマッチングプロセスのための方法及びシステム

Title:

塗布プロセスバイアスを補正するカラーマッチングプロセスのための方法及びシステム

Document Type and Number:

Japanese Patent JP2023552639

Kind Code:

A

Abstract:

本発明は、塗布プロセスバイアスが除去されたオフセット（３１０）が決定されるカラーマッチングプロセスのためのコンピュータ実装方法に関する。本発明はまた、それぞれのシステムを提供する。【選択図】図３

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Inventors:

Bischoff, Guido
Steiffmer, Florian

Application Number:

JP2023535678A

Publication Date:

December 18, 2023

Filing Date:

December 07, 2021

Export Citation:

Assignee:

BASF Coatings GmbH

International Classes:

B05D3/00; B05B12/08; B05C11/00; B05C11/10; B05D5/06

Attorney, Agent or Firm:

Toshiaki Eto
Akiko Kurawaki
Osamu Yamaguchi
Kenji Inagaki
Hironori Nagayama

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