Title:
半導体製造のための方法および構成
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022509482
Kind Code:
A
Abstract:
洗浄水供給構成（５０）は、超純水製造ユニット（５４）と、供給配管（５２）と、動作制御手段（５３）と、超純水推進構成（５５）と、を含む。供給配管（５２）の第１端部は、超純水製造ユニット（５４）からの出口に対して接続されている。供給配管の第２端部は、半導体洗浄装置に対して接続されるように構成されている。動作制御手段（５３）は、要求に応じた所定量の超純水を製造するよう、超純水製造ユニット（５４）を制御するように構成されている。超純水推進構成（５５）は、不活性ガス供給源に対してのアクセスを有するとともに、所定量の超純水の供給後には、供給配管（５２）を、水が残らないように、不活性ガスを使用して浄化するように構成されている。また、半導体洗浄システムと、半導体製造システムと、洗浄水を供給するための方法と、が開示されている。
Inventors:
Harald, Nasrund
Matz, Malmukvist
Matz, Malmukvist
Application Number:
JP2021548501A
Publication Date:
January 20, 2022
Filing Date:
October 23, 2019
Export Citation:
Assignee:
NANOSIZED SWEDEN AB
International Classes:
B08B5/02; H01L21/304
Attorney, Agent or Firm:
Nakamura Yukitaka
Miyajima Manabu
Takeshi Sekine
Akira Akaoka
Tomoya Deguchi
Miyajima Manabu
Takeshi Sekine
Akira Akaoka
Tomoya Deguchi