Title:
ナノ細孔支持構造及びその製造
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023531904
Kind Code:
A
Abstract:
複数のウェルを画定する壁を備える壁層と、ウェルの各々にわたって壁から延在するオーバーハングと、を備える、ナノ細孔支持構造が開示され、オーバーハングは、ナノ細孔の挿入に好適な膜を支持するように構成されたアパーチャを画定する。ナノ細孔支持構造を備えるナノ細孔感知デバイス、並びにナノ細孔支持構造及びナノ細孔感知デバイスを製造する方法が更に開示される。【選択図】図１ａ
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Inventors:
shell pin
Justin mirris
Healy, Ken
Clark, James Anthony
Hyde, Jason Robert
Wiltshire, Richard Kenneth John
McKendry, Jonathan Edward
Gracie, Robert
Brown, Clive Gavin
Pella, Ioana
Sangera, Guardian Singh
Highland mark
Ortiz Bajamon, Pedro Miguel
Jackson, Mark David
maquette, paul raymond
Davis, Rodri Reese
Justin mirris
Healy, Ken
Clark, James Anthony
Hyde, Jason Robert
Wiltshire, Richard Kenneth John
McKendry, Jonathan Edward
Gracie, Robert
Brown, Clive Gavin
Pella, Ioana
Sangera, Guardian Singh
Highland mark
Ortiz Bajamon, Pedro Miguel
Jackson, Mark David
maquette, paul raymond
Davis, Rodri Reese
Application Number:
JP2022577455A
Publication Date:
July 26, 2023
Filing Date:
April 29, 2021
Export Citation:
Assignee:
Oxford Nanopole Technologies PLC
International Classes:
G01N27/00; B82Y35/00; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Hiroshi Kobayashi
Norio Omori
Katsuhisa Akutsu
Norio Omori
Katsuhisa Akutsu