Title:
光を吸収し、又は光を放射するための光学機械システム及び対応する方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020507295
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、光を吸収し、又は光を放射するための光学機械システム１であって、静的フレーム要素１０と、入射光８０を捕捉し、透過光９０を伝送することができる１つ又は複数の光学層４１、４２を備える光学配置４０であって、静的フレーム要素１０の内側及び外側から入射光８０を受けることができるように配列される、光学配置と、透過光９０を吸収し、又は入射光８０を放射することができる光吸収／放射基板５０と、光吸収／放射基板５０に対して光学配置４０の層４１、４２のうちの少なくとも１つを、又はその逆を、移動させるためのシフト機構６０であって、透過光９０を光吸収／放射基板５０によって最適に吸収することができるように、又は光吸収／放射基板５０によって放射された入射光８０を光学配置４０によって最適に伝送することができるように、静的フレーム要素１０に対して１つ又は複数の並進要素６５を通して光学配置４０の層４１、４２のうちの少なくとも１つ又は光吸収／放射基板５０を並進移動させるように配列される、シフト機構６０とを備える、光学機械システム１に関する。さらに、本発明は、前述の光学機械システムを用いて、光を吸収し、又は光を放射するための対応する方法にも関する。
Inventors:
Bory, Noe
Gerrich, Florian
Coulo, Laurent
Ackerman, Mathieu
Gerrich, Florian
Coulo, Laurent
Ackerman, Mathieu
Application Number:
JP2019529551A
Publication Date:
March 05, 2020
Filing Date:
December 05, 2017
Export Citation:
Assignee:
Insolite Society Anonymous
International Classes:
H02S40/22; F21S2/00; F21S9/03; H01L33/00; H01L33/58; H01L33/60
Domestic Patent References:
| JP2002353494A | 2002-12-06 | |||
| JP2011134932A | 2011-07-07 | |||
| JP2012038431A | 2012-02-23 | |||
| JPH09148610A | 1997-06-06 | |||
| JP2010204276A | 2010-09-16 | |||
| JP2009092727A | 2009-04-30 |
Foreign References:
| US20090250094A1 | 2009-10-08 | |||
| US20120037204A1 | 2012-02-16 |
Attorney, Agent or Firm:
Asamura patent office