Title:
ＰＡＧ不含ポジ型化学増幅レジスト組成物及びそれの使用法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023502086
Kind Code:
A
Abstract:
開示された発明は、フェノール系樹脂成分、光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート成分（ＰＡＣ）、溶剤成分を含み、かつ添加された光酸発生剤（ＰＡＧ）の使用を含まないまたは必要としないレジスト組成物に関する。前記ＰＡＣは、フリーのＰＡＣ、結合されたＰＡＣ（ＰＡＣｂ）、またはそれらの組み合わせであり、これらは、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料を含むかまたは置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合された化合物を含み、ＵＶ露光時にスルホン酸類を形成しない。前記フェノール系樹脂成分は、ノボラック誘導体であり、フリーのヒドロキシ基のうちの一部または全てが、ＰＡＣｂ部分を含むことができる酸解裂性アセタール部分で保護されているものである。開示された発明はまた、厚膜または薄膜フォトレジストデバイス製造法のいずれかに本発明の組成物を使用する方法にも関する。
Inventors:
Takanori Kudo
Chen Han Yang
Chen Han Yang
Application Number:
JP2022528247A
Publication Date:
January 20, 2023
Filing Date:
November 17, 2020
Export Citation:
Assignee:
Merck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung
International Classes:
G03F7/039; C08G8/30; G03F7/004; G03F7/023; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Esaki Mitsufumi
Blacksmith Minoru Sawa
Katsuri Uenishi
Ichiro Torayama
Ishida Taisei
Blacksmith Minoru Sawa
Katsuri Uenishi
Ichiro Torayama
Ishida Taisei