Title:
ビームライン圧力制御による粒子生成量
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023536447
Kind Code:
A
Abstract:
ビームラインイオン注入装置、およびビームラインイオン注入装置を動作させる方法。方法は、イオン注入装置のプロセスチャンバ内で、基板の第１のセットに対して、第１の時間期間中にイオン注入手順を実施することと、第２の時間期間にわたってビームラインの少なくとも下流部分内へ既定の圧力に到達するように既定のガスを導入することによって、第２の時間期間中に第１の圧力制御ルーチンを実施することと、を含み得る。本方法は、第１の圧力制御ルーチンの完了後、第３の時間期間中に基板の第２のセットに対してイオン注入手順を実施することを含み得る。【選択図】図１
Inventors:
stacy, thomas
Schuur, Jay Tee.
Harmanson, Eric Dee.
Kuu, Bon-Un
Xie, Tse-Jen
Schuur, Jay Tee.
Harmanson, Eric Dee.
Kuu, Bon-Un
Xie, Tse-Jen
Application Number:
JP2023505458A
Publication Date:
August 25, 2023
Filing Date:
July 06, 2021
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
H01J37/317
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda & Kobayashi Patent Attorneys Corporation
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