パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、及び、電子デバイスの製造方法

Title:

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、及び、電子デバイスの製造方法

Document Type and Number:

Japanese Patent JP6496804

Kind Code:

B2

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Inventors:

Takada Akatsuki
Hirano Osamu
Hidehiro Mochizuki
Toshiya Takahashi
Toshiaki Fukuhara

Application Number:

JP2017502058A

Publication Date:

April 10, 2019

Filing Date:

February 10, 2016

Export Citation:

Assignee:

FUJIFILM Corporation

International Classes:

G03F7/039; C08F12/02; C08F22/20; G03F7/20

Domestic Patent References:

Attorney, Agent or Firm:

Kurata Masatoshi
Nobuhisa Nogawa
Naoki Kono
Tadashi Inoue
Ukai Ken
Shigeru Iino

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