Title:
プラズマ処理用ガス、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6977199
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】地球温暖化への影響を抑制可能であると共に、スループットの高いプラズマ処理を実行可能なプラズマ処理装置等を提供する。【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置１００は、内部にプラズマが生成されるチャンバ１と、チャンバ内に配置され、基板Ｓを載置する載置台２と、チャンバ内にプラズマを生成するためのガスを供給するガス供給源３（３ａ〜３ｄ）と、を備え、基板をプラズマを用いてエッチングするエッチング処理Ｓ２と、エッチング処理によって形成された凹部にプラズマを用いて保護膜を形成する保護膜形成処理Ｓ３と、を交互に繰り返し実行することで、基板を深掘りエッチングする装置である。保護膜形成処理Ｓ３において、プラズマを生成するために供給するガスとして、ガス供給源３ｂ、３ｃからチャンバ内にＣ４Ｆ８と２，３，３，３−テトラフルオロプロペンとの混合ガスを供給することを特徴とする。
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Inventors:
Kazuyuki Sueda
Masahiro Sasakura
Ryone Yamamoto
Mai Kadokawa
Masahiro Sasakura
Ryone Yamamoto
Mai Kadokawa
Application Number:
JP2021525200A
Publication Date:
December 08, 2021
Filing Date:
October 05, 2020
Export Citation:
Assignee:
spp Technologies Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/3065
Domestic Patent References:
| JP2017518645A | 2017-07-06 | |||
| JP2017085083A | 2017-05-18 | |||
| JP2017516318A | 2017-06-15 |
Attorney, Agent or Firm:
Makoto International Patent Office
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