Title:
汚染防止剤組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5960378
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】ドライパートにおけるピッチ汚染を効果的に防止することができる汚染防止剤組成物を提供すること。【解決手段】本発明は、抄紙機におけるドライパートＤに付与され、皮膜形成剤と、ゲル化剤とからなり、皮膜形成剤が、水、変性シリコーン及び乳化剤からなるエマルジョンであり、ゲル化剤が、下記式（１）で表される化合物である汚染防止剤組成物１である。［式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、カルボキシル基又は炭素数１〜３の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｒ２は、それぞれ独立して、水酸基又はカルボキシル基であり、Ｒ３は、水素原子、水酸基又はカルボキシル基であり、ｍは、１〜５の整数であり、ｎは、０〜５の整数である。］
Inventors:
Hiroshi Sekiya
Daisuke Kobayashi
Taku Sawada
Shinichiro Oohta
Kazuyuki Yusa
Daisuke Kobayashi
Taku Sawada
Shinichiro Oohta
Kazuyuki Yusa
Application Number:
JP2016517588A
Publication Date:
August 02, 2016
Filing Date:
March 25, 2016
Export Citation:
Assignee:
Mentec Co., Ltd.
International Classes:
D21F5/00; D21G1/00
Domestic Patent References:
| JP2003213587A | 2003-07-30 | |||
| JPH07292382A | 1995-11-07 | |||
| JP2013104133A | 2013-05-30 | |||
| JPH0849185A | 1996-02-20 | |||
| JP2010100697A | 2010-05-06 | |||
| JPH05147371A | 1993-06-15 |
Foreign References:
| WO2011105254A1 | 2011-09-01 |
Attorney, Agent or Firm:
Shinji Shirasaki
Abe Sosho
Toshiharu Katsuki
Abe Sosho
Toshiharu Katsuki