Title:
癒着防止用高分子組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6916353
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】本発明は、癒着防止用高分子組成物に関する。【解決手段】本発明による癒着防止用高分子組成物は、癒着防止機能を効果的に発揮しながらも手術時に発生する傷部位に持続的によく付着できるように付着性能に優れており、抗菌性や止血性も有し、剤型安定性に優れている。【選択図】図１
Inventors:
Cho Hi Park
Hong Sun Yun
Hee Jun Park
Bo Mi Mun
Guy Jae Kim
Hong Sun Yun
Hee Jun Park
Bo Mi Mun
Guy Jae Kim
Application Number:
JP2020134967A
Publication Date:
August 11, 2021
Filing Date:
August 07, 2020
Export Citation:
Assignee:
CG Bio Company, Limited
International Classes:
A61L31/06; A61L31/04; A61L31/12; A61L31/14; A61L31/16; A61L33/06; A61L33/12
Domestic Patent References:
| JP2013233287A |
Foreign References:
| US20150010490 |
Attorney, Agent or Firm:
Yasuhiko Murayama
Shinya Mitsuhiro
Tatsuhiko Abe
Shinya Mitsuhiro
Tatsuhiko Abe