Title:
プリウェット液、レジスト膜形成方法、パターン形成方法、キット
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024003073
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】本発明は、面内均一性に優れるレジスト膜を形成でき、形成されるパターンの欠陥抑制性にも優れるプリウェット液を提供する。上記プリウェット液に関する、レジスト膜形成方法、パターン形成方法、及び、キットを提供する。【解決手段】本発明のプリウェット液は、表面張力が２９．０ｍＮ／ｍ以上、粘度が１．８ｃＰ以下、かつ、蒸気圧が２．５～５．０ｍｍＨｇであるプリウェット液であって、上記プリウェット液は、１種以上の有機溶剤、水、及び、金属イオンを含有し、上記１種以上の有機溶剤が含有するそれぞれの有機溶剤は、いずれもＳＰ値が２６．０ＭＰａ１／２以下であり、上記１種以上の有機溶剤の含有量は、前記プリウェット液の全質量に対して、９８質量％以上であり、上記水の含有量は、前記プリウェット液の全質量に対して、０．１～５００質量ｐｐｍであり、上記金属イオンの含有量は、上記プリウェット液の全質量に対して、０．１～２００質量ｐｐｔである。【選択図】なし
Inventors:
Tomomi Takahashi
Tetsuya Shimizu
Tetsuya Shimizu
Application Number:
JP2023187580A
Publication Date:
January 11, 2024
Filing Date:
November 01, 2023
Export Citation:
Assignee:
Fujifilm Corporation
International Classes:
G03F7/11; G03F7/20; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Ito
Fumio Mihashi
Fumio Mihashi