Title:
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024055818
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】良好なマスクエラーファクタを有するレジストパターンを製造することができる塩、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。TIFF2024055818000229.tif59158［式中、ＸはＳ又はＩ；Ｒ１－Ｒ３は其々＊－Ｏ－Ｒ１０、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｒ１０等；Ｒ１０は置換／非置換の脂環式炭化水素基；ＡＩ－は有機アニオンを表す。等々］【選択図】なし
Inventors:
Hiroshi Nakamura
Risa Yasue
Koji Ichikawa
Risa Yasue
Koji Ichikawa
Application Number:
JP2023172720A
Publication Date:
April 18, 2024
Filing Date:
October 04, 2023
Export Citation:
Assignee:
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/004; C07D307/00; C07D321/06; C07D409/12; C09K3/00; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Shinju Global IP