Title:
高解像度パターニングのためのシラノール含有有機‐非有機ハイブリッドコーティング
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2021534315
Kind Code:
A
Abstract:
その上にパターンを形成するための半導体基板上のシラノール含有有機‐無機ハイブリッドコーティング。本発明のコーティングは、半導体基板を金属およびシラノール含有ポリヒドリドシルセスキオキサン樹脂溶液でコーティングすることによって製造することができる。本明細書では、特定の波長の光の放射でポリヒドリドシルセスキオキサンコーティング基材を含有する金属およびシラノールをパターニングするための方法も提供され、この方法は、選択されたパターンに沿ってコーティング基材を照射して、照射されたコーティングの領域および未照射のコーティングの領域を照射された構造を形成し、照射された構造を選択的に現像して、未照射のコーティングのかなりの部分を除去して、パターン化された基材を形成する工程を含む。本発明は、予め選択されたシラノール含有ポリヒドリドシルセスキオキサン樹脂を得ることを可能にし、シラノール含有量の調整は、EUVに適用するための高感度コーティングを得ることを可能にする。
Inventors:
Thomas Getta
Ron Dunn Nguyen
Marx Laukanen
Kinmo Karaste
Yuha Lantara
Jonathan Glenn
Ron Dunn Nguyen
Marx Laukanen
Kinmo Karaste
Yuha Lantara
Jonathan Glenn
Application Number:
JP2021531196A
Publication Date:
December 09, 2021
Filing Date:
August 12, 2019
Export Citation:
Assignee:
PIBOND OY
International Classes:
C09D183/06; C08G77/12; C09D7/61; C09D7/63; C09D183/05; G03F7/075
Domestic Patent References:
| JPS63152131A | 1988-06-24 | |||
| JPH10183063A | 1998-07-07 |
Other References:
LIU W-C: "NANOPOROUS SILICA FILMS DERIVED FROM STRUCTURAL CONTROLLABLE POLY(SILSESQUIOXANE) OLIGOMERS BY TEMP", MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, vol. 766, JPN7023001457, 1 January 2003 (2003-01-01), US, pages 309 - 314, XP009038026, ISSN: 0005039326, DOI: 10.1002/masy.200390140
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Sugimura
Mitsutsugu Sugimura
Kaori Oshima
Mitsutsugu Sugimura
Kaori Oshima