Title:
かご構造を有するシルセスキオキサン及びレジスト組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024036931
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】本発明のかご構造を有するシルセスキオキサンを含むレジスト組成物は、電子線や極端紫外光（ＥＵＶ）等の短波長の光源を使用した場合に、ドライエッチング耐性に優れ、微細なパターンを形成することができる。【解決手段】 下記化学式（１）で表されるかご構造を有するシルセスキオキサンを用いる。（ＲａＳｉＯ１．５）ｍ ・・・（１）【化２】TIFF2024036931000050.tif24170（上記化学式（１）中、ｍは３～３０の整数であり、Ｒａは上記化学式（２）で表される置換基を示し、化学式（２）におけるＬは炭素数１～６の炭化水素鎖、Ｙはエーテル結合、エステル結合、チオエーテル結合、チオエステル結合から選ばれる少なくとも１種のヘテロ結合、Ｚ１は直鎖または分岐アルキル基、第三級アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ｎは０～２である。）【選択図】なし
Inventors:
Fumi Ohno
Takao Murata
Takao Murata
Application Number:
JP2022141497A
Publication Date:
March 18, 2024
Filing Date:
September 06, 2022
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Chemical Corporation
International Classes:
C08G77/28; C08G79/14; G03F7/039; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Ichizawa / Kawada International Patent Office