Title:
基板洗浄装置および基板洗浄方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024044924
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】洗浄後の基板の下面中央領域の清浄度を向上させることが可能な基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】基板洗浄装置１は、基板Ｗの外周端部を保持する上側保持装置１０Ａ，１０Ｂと、基板Ｗの下面に接触して当該基板Ｗの下面を洗浄する下面ブラシ５１とを備える。下面ブラシ５１は、基板Ｗの下面中央領域の洗浄開始時に、基板Ｗの下面に対して離間した状態から基板Ｗの下面における第１の部分領域に接触するように移動する。その後、下面ブラシ５１は、基板Ｗの下面上で下面中央領域Ｒ１に接触するように移動する。下面ブラシ５１は、基板Ｗの下面中央領域の洗浄終了時に、基板Ｗの下面に対して接触した状態から基板Ｗの下面における第２の部分領域から離間するよう移動する。第１の部分領域および第２の部分領域のうち少なくとも一方は、基板Ｗの下面中央領域に重ならない。【選択図】図１
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Inventors:
Kazuki Nakamura
Yoshifumi Okada
Nobuaki Okita
Yoshifumi Okada
Nobuaki Okita
Application Number:
JP2022150757A
Publication Date:
April 02, 2024
Filing Date:
September 21, 2022
Export Citation:
Assignee:
Screen Holdings Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/304; H01L21/683
Attorney, Agent or Firm:
Masahiro Nakagawa
Go Sakane
Hideyuki Sawamura
Go Sakane
Hideyuki Sawamura