Title:
基材製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016526002
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、屈折率の部分変更を有するパターンを含む透明基材を製造するための方法に関する。この方法によれば、透明基材に少なくとも一本のレーザー線の形態をとって当該基材に集束させたレーザー光線を照射し、その際に基材が少なくとも部分的に当該レーザー光線を吸収し、基材と基材に集束させたレーザー線とをレーザー線の長手方向（Ｙ）を横切る方向（Ｘ）に相対移動させ、そしてこの相対移動の過程で、相対移動の速度と相対移動の方向（Ｘ）におけるパターンの寸法とに応じてレーザー線の出力を時間的に変更させる。
Inventors:
Emmanuel Mimun
Bliss Dubost
Bliss Dubost
Application Number:
JP2016514464A
Publication Date:
September 01, 2016
Filing Date:
May 21, 2014
Export Citation:
Assignee:
Saint-Gobain Glass France
International Classes:
C03C23/00; B23K26/00; B23K26/08; B23K26/53; H01S3/00
Domestic Patent References:
| JP2014021213A | 2014-02-03 | |||
| JP2007298914A | 2007-11-15 | |||
| JP2007212805A | 2007-08-23 | |||
| JP2007205724A | 2007-08-16 | |||
| JP2000203679A | 2000-07-25 | |||
| JP2011051011A | 2011-03-17 |
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Aoki
Takashi Ishida
Tetsuji Koga
Atsushi Ebiya
Satoshi Deno
Nobuo Sekine
Kazuya Shiokawa
Takashi Ishida
Tetsuji Koga
Atsushi Ebiya
Satoshi Deno
Nobuo Sekine
Kazuya Shiokawa