Title:
基板処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024009393
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】リフターとの干渉を抑制しつつ基板の表面に均一に気泡を供給することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】処理槽の内部に上方へと向かう処理液の層流が形成され、その処理液中に基板Ｗが浸漬される。処理槽の内部には８本の気泡供給管５１が配置され、それら８本の気泡供給管５１は基板Ｗの下方から処理液中に気泡を供給する。８本の気泡供給管５１のうちの最も内側の２本をパンチングプレート６０の凹部６５の内側に配置し、それら２本の気泡供給管５１の高さ位置を他の気泡供給管５１の高さ位置よりも低くする。リフター２０が基板Ｗを浸漬位置にまで下降させたときにも、背板２２の先端部２２ａが気泡供給管５１に衝突することは防がれる。また、最も内側の２本の気泡供給管５１を含む８本の気泡供給管５１を設けているため、基板Ｗの表面に均一に気泡を供給することができる。【選択図】図７
Inventors:
Mitsutoshi Sasaki
Manabu Yamamoto
Manabu Yamamoto
Application Number:
JP2022110882A
Publication Date:
January 23, 2024
Filing Date:
July 11, 2022
Export Citation:
Assignee:
Screen Holdings Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/306; H01L21/304
Attorney, Agent or Firm:
Hidetoshi Yoshitake
Takahiro Arita
Takahiro Arita