Title:
重複構造上での後方散乱電子をモデル化することによりオーバレイを計測するためのターゲット及びアルゴリズム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023533465
Kind Code:
A
Abstract:
オーバレイターゲットであって、下格子構造が試料上に配されていてその下格子構造上に上格子構造が配されている格子オーバ格子構造を有する。そのオーバレイターゲットが更に、下格子構造があるが上格子構造がない校正走査ロケーションと、上格子構造及び下格子構造があるオーバレイ走査ロケーションとを有する。
Inventors:
Gutman Nadab
Ahe Oliver
phelps cary
Ahe Oliver
phelps cary
Application Number:
JP2022580189A
Publication Date:
August 03, 2023
Filing Date:
June 30, 2021
Export Citation:
Assignee:
KLA Corporation
International Classes:
H01L21/66; G01B15/00; H01J37/22
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation YKI International Patent Office