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Patent Searching and Data


Title:
薄膜デバイス
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016181710
Kind Code:
A1
Abstract:
樹脂層が膨張することにより生じる応力により薄膜抵抗素子が破損するのを防止して、信頼性の高い薄膜デバイスを得ることができる技術を提供することを目的とする。抵抗薄膜１２のうちの第１の金属薄膜１５ａ〜１５ｃと平面視で重なる部分においては、第１の金属薄膜１５ａ〜１５ｃにより抵抗薄膜１２が基板１に対して押さえこまれるので、高温状態において樹脂層３が膨張することにより薄膜抵抗素子Ｒ１，Ｒ２に加わる曲げ応力等を緩和することができ、抵抗薄膜１２のうちの第１の金属薄膜１５ａ〜１５ｃと平面視で重ならない部分には第１の補強用薄膜１２ａが形成されているので、樹脂層３が膨張することにより生じる応力等によって薄膜抵抗素子Ｒ１，Ｒ２が破損するのを防止することができ、信頼性の高い薄膜抵抗素子Ｒ１，Ｒ２付きの薄膜デバイス１００を得ることができる。

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Inventors:
Tomoyuki Ashimine
Satoshi Shindo
Hiroshi Takeshima
Application Number:
JP2017515872A
Publication Date:
August 10, 2017
Filing Date:
March 23, 2016
Export Citation:
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Assignee:
MURATA MANUFACTURING CO.,LTD.
International Classes:
H01L27/04; H01C17/08; H01G4/12; H01G7/06; H01L21/822
Domestic Patent References:
JP2015088585A2015-05-07
JPH03225950A1991-10-04
JP2006332428A2006-12-07
Foreign References:
US20060228879A12006-10-12
Attorney, Agent or Firm:
Ryose Uji
Kakusho Shoichi
Maruyama Yosuke



 
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