Title:
薄膜の物性評価方法および評価装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5120927
Kind Code:
B2
Inventors:
Ken Ito
Keiki Kobayashi
Toshitaka Oka
Keiki Kobayashi
Toshitaka Oka
Application Number:
JP2007206667A
Publication Date:
January 16, 2013
Filing Date:
August 08, 2007
Export Citation:
Assignee:
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
International Classes:
G01N21/21; G01J4/04
Domestic Patent References:
| JP2004020405A |
Foreign References:
| US20010054306 |
Other References:
H.Yao, 他,“Temperature dependence of optical properties of GaAs”,Journal of Applied Physics,1991年 9月15日,Vol.70, No.6,pp.3261-3267
M.R.Baklanov 他,“Determination of pore size distribution in thin films by ellipsometric porosimetry”,Journal of Vacuum Science and Technology B,2000年,Vol.18, No.3,pp.1385-1391
山地 正洋 Masahiro Yamaji,ポーラスシリカlow-k膜熱膨張係数の空孔率および骨格依存性 Effects of Porosity and Skeletal Struc,2006年(平成18年)春季 第53回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第2分冊 Extended Abstrac,(社)応用物理学会,2006年 3月22日,第2巻,p.882
山地 正洋 Masahiro Yamaji,分光エリプソメトリその場測定法を用いた低誘電率膜の熱膨張係数の評価 Thermal Expansion Coefficients o,2005年(平成17年)秋季 第66回応用物理学会学術講演会講演予稿集 第2分冊 Extended Abstracts,(社)応用物理学会,2005年 9月 7日,第2巻,p.695
T.Oka 他,“Porogen approach for the fabrication of plasma-polymerized nanoporous polysiloxane films”,The Journal of Physical Chemistry B,2006年 9月15日,Vol.110, No.41,pp.20172-20176
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山地 正洋 Masahiro Yamaji,ポーラスシリカlow-k膜熱膨張係数の空孔率および骨格依存性 Effects of Porosity and Skeletal Struc,2006年(平成18年)春季 第53回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第2分冊 Extended Abstrac,(社)応用物理学会,2006年 3月22日,第2巻,p.882
山地 正洋 Masahiro Yamaji,分光エリプソメトリその場測定法を用いた低誘電率膜の熱膨張係数の評価 Thermal Expansion Coefficients o,2005年(平成17年)秋季 第66回応用物理学会学術講演会講演予稿集 第2分冊 Extended Abstracts,(社)応用物理学会,2005年 9月 7日,第2巻,p.695
T.Oka 他,“Porogen approach for the fabrication of plasma-polymerized nanoporous polysiloxane films”,The Journal of Physical Chemistry B,2006年 9月15日,Vol.110, No.41,pp.20172-20176