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Patent Searching and Data


Title:
VACUUM PROCESS CHAMBER COMPONENT AND METHOD OF MAKING THE SAME
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017168852
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】熱膨張係数が大きく異なるセラミック製静電パック及び金属製ベースプレートをはんだ接合して気密シール可能な、真空プロセス・チャンバの構成部品である静電チャック及びその製造方法を提供する。【解決手段】真空プロセス・チャンバの構成部品10である第1の部分11と第2の部分12とは、互いの間に少なくとも1つ設けたOリング13を圧縮した状態で、外側半径方向部分14のはんだ接合部16により相互接合されている。はんだ接合部16とOリング13との間には間隙19が設けられて構成される。はんだ接合部16は、第1の部分11と第2の部分12のうちの一方又は両方にはんだ濡れ薄層18を準備するとともに、第1の部分11と第2の部分12との間に反応性箔を配置し、反応性箔を点火して局所的に加熱することにより低温はんだ接合部を形成する。【選択図】図1

Inventors:
VIJAY D PARKHE
Application Number:
JP2017087133A
Publication Date:
September 21, 2017
Filing Date:
April 26, 2017
Export Citation:
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Assignee:
APPLIED MATERIALS INC
International Classes:
H01L21/683; B23K1/00; B23K1/20; B23K3/04
Domestic Patent References:
JP2010199107A2010-09-09
JP2006522722A2006-10-05
JP2006009012A2006-01-12
JPH1032239A1998-02-03
JP2004311522A2004-11-04
JP2001210705A2001-08-03
JP2009094137A2009-04-30
Foreign References:
US20080089001A12008-04-17
Attorney, Agent or Firm:
田中 伸一郎
弟子丸 健
大塚 文昭
西島 孝喜
須田 洋之
上杉 浩
近藤 直樹
岩崎 吉信