Title:
真空処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016121075
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、一対のガスバルブのハードインターロックを有するガス供給手段を備える真空処理装置を提供する。本発明は、ノーマルクローズ型のエアー駆動バルブを用いて真空処理を行うためのガスを前記真空処理が行われる処理室に供給するガス供給部を備える真空処理装置において、前記ガス供給部は、一対の前記エアー駆動バルブの一方が開の場合、前記一対のバルブの他方が閉となるインターロック機能を有し、前記エアー駆動バブルを駆動するためのエアーを制御するエアー回路を具備し、前記エアー回路は、前記一対のエアー駆動バルブの各々に対応するソレノイドコイルを有する電磁弁を用いて構成されていることを特徴とする。
Inventors:
Yoshifumi Ogawa
Masaki Sumiya
Shinichi Isozaki
Nunomura Nobuhide
Masaki Sumiya
Shinichi Isozaki
Nunomura Nobuhide
Application Number:
JP2015562608A
Publication Date:
April 27, 2017
Filing Date:
January 30, 2015
Export Citation:
Assignee:
Hitachi High-Technologies Corporation
International Classes:
B01J3/02; C23C16/455; F15B20/00; H01L21/31
Attorney, Agent or Firm:
Manabu Inoue
Yuji Toda
Shigemi Iwasaki
Yuji Toda
Shigemi Iwasaki