Title:
洗浄装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7144892
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】簡潔な構成であり、かつ、錆等の化学反応物質を生成しにくい、洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄装置は、直列に連結された複数の水槽であって、最上流の水槽から順に越流して最下流の水槽まで洗浄剤が流下するようになっている、複数の水槽と、最下流の水槽の下流側と最上流の水槽の上流側の間に配置されて、洗浄剤が通過する純水装置と、を備えており、洗浄剤には、純水に純水装置に捕捉されない洗浄剤成分が添加されている。この純水装置に捕捉されない洗浄剤成分として、例えば、グリコールエーテルが使用される。【選択図】図１
Inventors:
Yoshihiko Hoshihara
Application Number:
JP2022007430A
Publication Date:
September 30, 2022
Filing Date:
January 20, 2022
Export Citation:
Assignee:
Yoshihiko Hoshihara
International Classes:
B08B3/12; B08B3/08
Domestic Patent References:
| JP2015085222A | 2015-05-07 | |||
| JP2014008447A | 2014-01-20 | |||
| JP2003024888A | 2003-01-28 | |||
| JPH09148293A | 1997-06-06 |
Foreign References:
| WO2013094528A1 | 2013-06-27 | |||
| WO2019163465A1 | 2019-08-29 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent business corporation patent box