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Title:
銅露出基板の洗浄方法および洗浄システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2014178289
Kind Code:
A1
Abstract:
紫外線酸化装置を備えたサブシステムの水出口と、各基板処理装置の水入口とが、主配管を介して接続されている。サブシステムの紫外線酸化装置と非再生型イオン交換装置の間に過酸化水素除去装置(2)が設置されている。さらに、サブシステムの水出口から分岐して、基板処理装置(1)へ至る配管(3)の途中に二酸化炭素供給装置(4)が設置されている。過酸化水素除去装置(2)は白金族系金属触媒を充填した態様を有する。このような構成により、紫外線酸化装置を通ってきた超純水を基にして、液中に溶存する過酸化水素濃度が2μg/L以下に抑制され、かつ二酸化炭素を添加して比抵抗が0.03〜5.0MΩ・cmの範囲に調整された炭酸水を作り、該炭酸水を用いて、基板処理装置1内に設置された少なくとも銅または銅化合物が表面に露出した基板を洗浄する。

Inventors:
Daisaku Yano
Murayama Masami
Yamashita happiness
Koji Yamanaka
Application Number:
JP2015514807A
Publication Date:
February 23, 2017
Filing Date:
April 17, 2014
Export Citation:
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Assignee:
Organo Corporation
International Classes:
H01L21/304; B01F1/00; B01J31/08; C02F1/32; C02F1/58
Domestic Patent References:
JP2003136077A2003-05-13
JP2010069460A2010-04-02
JPH04206724A1992-07-28
JP2010240641A2010-10-28
JP2010056218A2010-03-11
Foreign References:
WO2007088848A12007-08-09
Attorney, Agent or Firm:
Akio Miyazaki
Masaaki Ogata