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Title:
化合物、及びそれを含む組成物、並びに、レジストパターンの形成方法及び絶縁膜の形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020040162
Kind Code:
A1
Abstract:
ポリフェノール化合物（Ｂ）を含む組成物であって、前記ポリフェノール化合物（Ｂ）が、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される構造を有する樹脂からなる群より選ばれる１種以上である、組成物。【化１】【化２】

Inventors:
Takashi Sato
Echigo Masatoshi
Takashi Makinoshima
Application Number:
JP2020538415A
Publication Date:
September 02, 2021
Filing Date:
August 21, 2019
Export Citation:
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Assignee:
Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
International Classes:
C08L61/04; C08L101/00; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20
Foreign References:
WO2016158168A12016-10-06
WO2016158169A12016-10-06
WO2016158170A12016-10-06
WO2016158456A12016-10-06
WO2016158457A12016-10-06
WO2016158458A12016-10-06
WO2017043561A12017-03-16
WO2017038643A12017-03-09
WO2017038645A12017-03-09
WO2020040161A12020-02-27
WO2020027206A12020-02-06
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Kazuhiko Naito



 
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