Title:
微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018537703
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、少なくとも１つのポリマーおよび少なくとも１つの有機溶剤を含んでなる、ネガ型リソグラフィープロセスで作成されたレジストパターンを太らせるためのシュリンク材組成物であって、前記の少なくとも１つのポリマーが含窒素ヘテロ芳香族環系の少なくとも１つの構造単位を含んでなる、シュリンク材組成物に関する。
Inventors:
One, Xiaoway
Application Number:
JP2018518591A
Publication Date:
December 20, 2018
Filing Date:
November 02, 2016
Export Citation:
Assignee:
AZED Electronic Materials (Luxembourg) Societe a Responsible Limite
International Classes:
G03F7/40; C08F26/06; C08G61/12; G03F7/20; H01L21/027
Domestic Patent References:
| JP2015127796A | 2015-07-09 | |||
| JP2013083818A | 2013-05-09 | |||
| JP2015055844A | 2015-03-23 | |||
| JP2017088867A | 2017-05-25 | |||
| JP2017010016A | 2017-01-12 | |||
| JP2016204739A | 2016-12-08 | |||
| JP2016111345A | 2016-06-20 |
Attorney, Agent or Firm:
Hiroyuki Nagai
Yukitaka Nakamura
Yasukazu Sato
Satoru Asakura
Hideaki Maekawa
Endo Ayako
Yukitaka Nakamura
Yasukazu Sato
Satoru Asakura
Hideaki Maekawa
Endo Ayako