Title:
ドライエッチング用組成物、キット、パターン形成方法および光学フィルタの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018061781
Kind Code:
A1
Abstract:
可視光の遮光性が高く、かつ、特定の波長領域の赤外線の透過性に優れた硬化膜のパターンを解像性良く形成できるドライエッチング用組成物、キット、パターン形成方法および光学フィルタの製造方法を提供する。ドライエッチング用組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材と、硬化性化合物と、溶剤とを含み、組成物の波長４００〜７００ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂとの比であるＡ／Ｂが４．５以上である。
Inventors:
Keisuke Arimura
Application Number:
JP2018542367A
Publication Date:
June 27, 2019
Filing Date:
September 13, 2017
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
G02B5/22; G03F7/004; G03F7/11
Domestic Patent References:
| JP2008091535A | 2008-04-17 | |||
| JP2009069822A | 2009-04-02 | |||
| JP2017049469A | 2017-03-09 |
Foreign References:
| WO2015151999A1 | 2015-10-08 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Service Corporation Patent Office Sykes