Title:
流動層システムおよび流動層炉の運転方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2014175208
Kind Code:
A1
Abstract:
流動層システムは、流動層炉（１３０）内に設けられたメインノズル群（１４４）（第１のノズル群）と、流動層炉内に設けられた補助ノズル群（１５４）（第２のノズル群）と、第１のノズル群を通じて、流動層炉内にガスを供給する第１供給部（１６０）と、第１のノズル群および第２のノズル群の双方を通じて、流動層炉内にガスを供給する第２供給部（１８０）と、起動運転する際に、第２供給部を制御し、流動層炉内にガスを供給させることで、流動層炉内において流動媒体の流動層を形成させ、通常運転する際に、第２供給部によるガスの供給を停止させるとともに第１供給部を制御し、流動層炉内にガスを供給させることで、流動層炉内において流動媒体の流動層を形成させる制御部（１９０）と、を備える。
Inventors:
Hiroshi Funakoshi
Application Number:
JP2015513741A
Publication Date:
February 23, 2017
Filing Date:
April 21, 2014
Export Citation:
Assignee:
Ihi Co., Ltd.
International Classes:
F27B15/10; C10J3/54; F23C10/20; F27B15/18
Attorney, Agent or Firm:
Mitsuo Teramoto
Masatake Shiga
Hisanori Takahashi
Masatake Shiga
Hisanori Takahashi
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