Title:
反応器の内部をクリーニングするため、ならびにケイ素含有化合物の膜をエッチングするためのガス組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP3878972
Kind Code:
B2
Abstract:
A gas composition, for cleaning the interior of CVD chambers or etching a thin film comprising a silicon-containing compound or compounds, comprises FNO and further comprises O 2 and/or one or more inert gases.
Inventors:
Akira Sekiya
Fukae Koya
Mitsui Yuki
Ginjiro Tomizawa
Fukae Koya
Mitsui Yuki
Ginjiro Tomizawa
Application Number:
JP2002529826A
Publication Date:
February 07, 2007
Filing Date:
September 21, 2001
Export Citation:
Assignee:
東京エレクトロン株式会社
株式会社ルネサステクノロジ
NECエレクトロニクス株式会社
松下電器産業株式会社
ダイキン工業株式会社
キヤノンアネルバ株式会社
三洋電機株式会社
株式会社日立国際電気
ソニー株式会社
シャープ株式会社
株式会社東芝
富士通株式会社
旭硝子株式会社
昭和電工株式会社
株式会社アルバック
関東電化工業株式会社
独立行政法人産業技術総合研究所
株式会社ルネサステクノロジ
NECエレクトロニクス株式会社
松下電器産業株式会社
ダイキン工業株式会社
キヤノンアネルバ株式会社
三洋電機株式会社
株式会社日立国際電気
ソニー株式会社
シャープ株式会社
株式会社東芝
富士通株式会社
旭硝子株式会社
昭和電工株式会社
株式会社アルバック
関東電化工業株式会社
独立行政法人産業技術総合研究所
International Classes:
H01L21/205; B08B7/00; C09K13/00; C23C16/44; H01L21/3065; H01L21/311; H01L21/3213
Domestic Patent References:
| JP7169743A | ||||
| JP5326460A | ||||
| JP5299391A | ||||
| JP6132259A | ||||
| JP2000500282A |
Attorney, Agent or Firm:
Kazuo Shamoto
Tadashi Masui
Yasushi Kobayashi
Akio Chiba
Hiroyuki Tomita
Takeshi Kano
Tadashi Masui
Yasushi Kobayashi
Akio Chiba
Hiroyuki Tomita
Takeshi Kano
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