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Title:
ガス供給装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7127792
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】成分ガスとキャリアガスとの混合ガスを、コンパクトな装置構成で効率よく供給する。【解決手段】混合ガス供給装置1が、液体成分とキャリアガスとを加熱し、液体成分が気化した成分ガスとキャリアガスとの混合ガスを生成する蒸発器10、及び蒸発器10で生成された混合ガスを冷却し、過飽和分を凝縮分離させた成分ガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する冷却器30を備える。蒸発器10は、シェルアンドチューブ型加熱機構を備え、蒸発器10の胴11内には、キャリアガスのバブリング用の孔16H、17Hが複数箇所に開いたキャリアガス用チューブ16、17が水平方向に伸び、蒸発器10の胴11の下部には液体成分供給口20が設けられ、蒸発器10の胴11の上部には、液体成分が気化した成分ガスとキャリアガスとの混合ガスを送出する送出口23が設けられ、冷却器30の下部が蒸発器10の送出口23と配管31で連続する。【選択図】図1

Inventors:
Shuhei Marutani
Mitsutake Miura
Application Number:
JP2022077155A
Publication Date:
August 30, 2022
Filing Date:
May 09, 2022
Export Citation:
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Assignee:
Toyoko Chemical Co., Ltd.
Techno Bundary Co., Ltd.
International Classes:
B01J7/02; C23C16/24; C23C16/452
Domestic Patent References:
JPH08187427A1996-07-23
JP2000319095A2000-11-21
JP2010284628A2010-12-24
JP2013115208A2013-06-10
JP2012000537A2012-01-05
Attorney, Agent or Firm:
Taji U.S. Patent Office