Title:
投影露光装置のための照明光学アセンブリ
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017527855
Kind Code:
A
Abstract:
投影露光装置のための照明光学アセンブリ（１１）は、各場合に複数の変位可能な個々のミラー（３１）によって形成された複数の第１のファセット（２１i）を有する第１のファセット要素（６）と、複数の第２のファセット（２５i）を有する第２のファセット要素（７）とを含む。ここで、第１のファセット（２１i）の個々のミラー（３１）の変位位置は、中間フォーカス（ＺＦ）内の照明放射線（３）の予め定められた強度分布（３６）の場合に、第２のファセット要素（７）のファセット（２５i）の領域内の照明放射線（３）が、最大で予め定められた最大強度（Ｉ*）に等しい最大値、又は強度分布（３７）の平均値よりも最大で予め定められた係数又は絶対値だけ大きい最大値を有する強度分布（３７）を有するように各場合に選択される。【選択図】図４
Inventors:
Entres Martin
Being stig
Being stig
Application Number:
JP2017512829A
Publication Date:
September 21, 2017
Filing Date:
August 24, 2015
Export Citation:
Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
G03F7/20; G02B19/00
Attorney, Agent or Firm:
Shinichiro Tanaka
Disciple Maru Ken
▲吉▼田 和彦
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
Hiroshi Oura
Disciple Maru Ken
▲吉▼田 和彦
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
Hiroshi Oura