Title:
レーザー光源、波長変換光源、合成光源及び投影システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016526258
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、レーザー光源（３００）、波長変換光源、合成光源及び投影システムに関する。当該レーザー光源は、レーザー素子アレイと、集光光学素子（３３）と、コリメータ光学素子（３４）と、２次レーザー光束アレイ（３８２）を受容すると共に均一化するためのインテグレータロッド（３６）とを備え、レーザー素子アレイとインテグレータロッド（３６）との間の光路上に、角度分布制御素子（３５）がさらに設置され、インテグレータロッド（３６）に入射する各２次レーザー光束の光分布の短軸方向における発散角と長軸方向における発散角との比率が０．７以上になる。【選択図】図１
Inventors:
Fu Faye
Ho hition
Ho hition
Application Number:
JP2016513215A
Publication Date:
September 01, 2016
Filing Date:
May 07, 2014
Export Citation:
Assignee:
Apotronics China Corporation
International Classes:
F21S2/00; F21V9/16; F21V9/40; G02B6/42; G02B19/00; G03B21/00; G03B21/14; H01S3/00; H01S3/10
Domestic Patent References:
| JP2008034351A | 2008-02-14 | |||
| JP2008034351A | 2008-02-14 |
Attorney, Agent or Firm:
Hayashi Ichiyoshi
Tetsuo Shiba
Iwaike Mitsuru
Tetsuo Shiba
Iwaike Mitsuru