Title:
ジフェニルメタンシリーズのジアミン及びポリアミンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016522799
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、中和した粗製物の洗浄で得たプロセス生成物を相分離する際に癒合補助手段を使用することにより、有機ＭＤＡ含有相中にある水の画分を低減させ、従って水溶性不純物の画分をも低減させる、ジフェニルメタンシリーズのジ−及びポリアミンの製造方法に関する。本発明によって使用される癒合補助手段は、癒合繊維材料からなるろ床である。このＭＤＡ含有有機相の蒸留精製後に得られるジフェニルメタンシリーズのジ−及びポリアミンは、対応するイソシアネートの製造に非常に好適である。
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Inventors:
Thomas, Knerf
Wolfgang, Lorenz
Stephan, Bellshofen
Richard, Adamson
Karsten, Becker
Wolfgang, Lorenz
Stephan, Bellshofen
Richard, Adamson
Karsten, Becker
Application Number:
JP2016506885A
Publication Date:
August 04, 2016
Filing Date:
April 08, 2014
Export Citation:
Assignee:
COVESTRO DEUTSCHLAND AG
International Classes:
C07C209/86; B01D17/022; C07C209/78; C07C211/50; C07C263/10; C07C265/14
Domestic Patent References:
| JP2006124392A | 2006-05-18 | |||
| JPS5170295A | 1976-06-17 |
Foreign References:
| US20060094897A1 | 2006-05-04 |
Attorney, Agent or Firm:
Hirohito Katsunuma
Hiroshi Sorimachi
Yuko Matsuyama
Hiroshi Sorimachi
Yuko Matsuyama