Title:
立体選択的なエポキシケトン化合物の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015526384
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】 立体選択的なエポキシケトン化合物の新規な製造方法の提供。【解決手段】 下記スキームで表される式（１）で表されるエポキシケトン化合物の製造方法。これにより、高収率かつ高選択性でエポキシケトン誘導体が得られ、工業的に有用な製造方法およびその中間体を提供できる。【化１】（式中、R１は、水素原子、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、または置換基を有してよい芳香族基、複素環基を表し、R２はアミノ基の保護基を表す。Rは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又はC1-10アルキル基を表し、但し、少なくとも１つのRはC1-10アルキル基を表す。）【選択図】なし
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Inventors:
Yukihiro Nishino
Kazuya Wakui
Shota Murase
Sakai
Kazuya Wakui
Shota Murase
Sakai
Application Number:
JP2014561639A
Publication Date:
September 10, 2015
Filing Date:
June 27, 2013
Export Citation:
Assignee:
Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
International Classes:
C07C269/06; C07B53/00; C07B57/00; C07C271/16; C07D303/36
Domestic Patent References:
| JP2007538081A | 2007-12-27 |
Other References:
JPN6017003793; ＳＡＲＫＯ，Ｃ．Ｒ． ｅｔ ａｌ: 'Ｃｈｅｌａｔｉｏｎ-ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ ｐｒｏｔｏｃｏｌ ｆｏｒ ｔｈｅ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ ｋｅｔｏｎｅｓ' Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｖｏｌ．５９， Ｎｏ．４, 1994, ｐ．７０５-７０６
JPN6017003794; ＮＡＲＡＹＡＮＡ，Ｃ． ｅｔ ａｌ: Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．３８， Ｎｏ．４４, 1997, ｐ．７７０５-７７０８
JPN6017003794; ＮＡＲＡＹＡＮＡ，Ｃ． ｅｔ ａｌ: Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．３８， Ｎｏ．４４, 1997, ｐ．７７０５-７７０８
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Izumina
Toshiharu Ogawa
Toshiharu Ogawa