Title:
A manufacturing method of a wig base, a wig, and a wig base
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6177407
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】 メッシュの密度が異なる領域の境界での段差が少なくて装着快適性に優れ、かつ低コストで容易に製造可能なかつらベース、及びこのかつらベースに擬毛が植設されたかつら、並びにこのカツラベースの製造方法を提供する。【解決手段】 第１の繊維及び第２の繊維を含む２種以上の繊維により形成された密なメッシュ領域４と、密なメッシュ領域に比べ第１の繊維が除かれている粗なメッシュ領域６とを有する抜蝕加工布帛である基布８を備えたかつらベース２、及びこのかつらベース２に擬毛が植設されたかつら、並びにこのかつらベースの製造方法を提供する。【選択図】 図１
Inventors:
Esashika Toshiya
Toshiki Maekawa
Hiroyuki Nosaka
Toshiki Maekawa
Hiroyuki Nosaka
Application Number:
JP2016203726A
Publication Date:
August 09, 2017
Filing Date:
October 17, 2016
Export Citation:
Assignee:
Aderans Co., Ltd.
SEIREN CO.,LTD.
SEIREN CO.,LTD.
International Classes:
A41G3/00
Domestic Patent References:
| JP2015137425A | 2015-07-30 | |||
| JP2008038332A | 2008-02-21 | |||
| JP3019231U | 1995-12-12 | |||
| JP2008266861A | 2008-11-06 |
Attorney, Agent or Firm:
Samejima Mutsumi
Masaishi Nishishita
Yasuo Yanagibashi
Masaishi Nishishita
Yasuo Yanagibashi