Title:
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物用の樹脂の製造方法、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2019167419
Kind Code:
A1
Abstract:
解像力及びラフネス特性に優れ、スカムの発生が抑制され、ＣＤＵに優れ、かつ経時安定性に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物用の樹脂の製造方法、並びに、上記組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法の提供。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記（Ａ）〜（Ｃ）を含有し、共役酸のｐＫａが４．０以上である化合物の含有量が、全固形分に対して質量基準で１ｐｐｍ以下である。（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂；（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物；（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する含フッ素化合物一般式（１）中、Ｒ１は水素原子又は１価の有機基を表す。Ｘ１は二価の連結基を表す。Ｙ１及びＺ１はそれぞれ独立に１価の有機基を表す。Ｙ１とＺ１とは連結して環を形成しても良い。
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Inventors:
Taro Miyoshi
Yasuhisa Yoneda
Kotaro Takahashi
Yasuhisa Yoneda
Kotaro Takahashi
Application Number:
JP2020502832A
Publication Date:
February 04, 2021
Filing Date:
December 27, 2018
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
G03F7/039; C08F212/14; C08F220/22; G03F7/004; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2013083966A | 2013-05-09 | |||
| JP2016099535A | 2016-05-30 | |||
| JP2010270333A | 2010-12-02 |
Foreign References:
| WO2017056928A1 | 2017-04-06 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Business Corporation Koei Patent Office