Title:
プロセスガスを生成するための方法およびシステム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018526201
Kind Code:
A
Abstract:
多成分原料液の気相からのガス(例えばプロセスガス)の気相供給方法が提供される。当該方法は、多成分原料液の容器へ供給される入力電力に比例する質量流量レートを有するプロセスガスの生成に一般的に関する。当該方法は、プロセスガスを重要プロセス用途へ供給するために使用することができる。
Inventors:
Jeffrey Spiegelman
Shepherd, douglas
Holmes, Russell, Jay.
Shamsey, Zolev
Shepherd, douglas
Holmes, Russell, Jay.
Shamsey, Zolev
Application Number:
JP2018506896A
Publication Date:
September 13, 2018
Filing Date:
August 10, 2016
Export Citation:
Assignee:
RASIRC, INC.
International Classes:
B01J7/02; B01D71/32; B01J4/02; C23C16/448
Domestic Patent References:
| JP2015514005A | 2015-05-18 |
Foreign References:
| US20130233170A1 | 2013-09-12 |
Attorney, Agent or Firm:
Masutani Takeshi
Hiroyuki Nakao
Hiroyuki Nakao