Title:
極端紫外線リソグラフィのための光学装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015510262
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は光学装置、特にマイクロリソグラフィのための投影レンズであって、光学表面（３１ａ）及び基板（３２）を含む少なくとも１つの光学素子（２１）を備え、基板は、基準温度に関係するゼロ交差温度ΔＴＺＣ＝ＴＺＣ−Ｔｒｅｆで温度に依存する熱膨張係数がゼロに等しくなる材料から形成され、光学表面（３１ａ）は、光学装置の動作中に局部照射（５ａ）による位置に依存した温度分布ΔＴ（ｘ，ｙ）を有し、基準温度Ｔｒｅｆに関係し、平均温度ΔＴａｖ、最低温度ΔＴｍｉｎ及び最高温度ΔＴｍａｘを有し、平均温度ΔＴａｖは、最低温度ΔＴｍｉｎ及び最高温度ΔＴｍａｘから算出される平均値１／２（ΔＴｍａｘ＋ΔＴｍｉｎ）より低く、ゼロ交差温度ΔＴＺＣは平均温度ΔＴａｖより高いことを特徴とする。同様に、本発明は、このような投影レンズ形式の光学装置を備えるＥＵＶリソグラフィ装置、及び光学装置を構成するための関連する方法に関する。【選択図】図２
Inventors:
Norman veil
Tralf Gruner
Ulrich rolling
Tralf Gruner
Ulrich rolling
Application Number:
JP2014553668A
Publication Date:
April 02, 2015
Filing Date:
January 14, 2013
Export Citation:
Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
H01L21/027; G02B19/00; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2011176311A | 2011-09-08 | |||
| JP2005228875A | 2005-08-25 | |||
| JP2008130827A | 2008-06-05 | |||
| JP2011512018A | 2011-04-14 |
Foreign References:
| US20050207001A1 | 2005-09-22 |
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Sugimura
Makoto Fukuo
Kimizuka Emi
Makoto Fukuo
Kimizuka Emi