Title:
A process of using a film of selective permeability
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016533882
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、生成物の合成に対して水素種選択的透過性の膜を利用するプロセスに関する。本発明は、水素種透過性の膜を利用する、水素挿入又は水素化反応から生成物を合成するためのプロセスにも関する。本発明は、水素種選択的透過性の膜を利用する、アンモニアを合成するためのプロセスにも関する。上記膜は、多孔性の層を含み得る表面が修飾された膜を提供し、多孔性の層は、該層内での反応を促進するために、金属種及び触媒を含む複数の反応性部位を含有する。
Inventors:
Bad Wal, Skuffwinder
Gidei, Saab Jit Singh
Chiachi, Fabio, Tomaso
Kurkarni, Anildach
Hughes, Anthony E.
Kennedy, Daniel Frances
Gidei, Saab Jit Singh
Chiachi, Fabio, Tomaso
Kurkarni, Anildach
Hughes, Anthony E.
Kennedy, Daniel Frances
Application Number:
JP2016533751A
Publication Date:
November 04, 2016
Filing Date:
August 14, 2014
Export Citation:
Assignee:
COMMONWEALTH SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH ORGANISATION
International Classes:
B01D53/22; B01D69/00; B01D69/12; B01D71/02; C01C1/04
Domestic Patent References:
| JP2006110419A | 2006-04-27 | |||
| JP2005089226A | 2005-04-07 |
Foreign References:
| WO2008102509A1 | 2008-08-28 | |||
| US20030183080A1 | 2003-10-02 |
Attorney, Agent or Firm:
Tadashige Ito
Tadahiko Ito
Shinsuke Onuki
Tadahiko Ito
Shinsuke Onuki
Previous Patent: JP2016533881
Next Patent: A manufacturing method and the directions for a nano porosity silicon nitride film and such a film
Next Patent: A manufacturing method and the directions for a nano porosity silicon nitride film and such a film