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Title:
芳香族ビニル化合物が付加したノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2015151803
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】 良好な塗布成膜性を発現するためのリソグラフィーに用いられる溶剤への高い溶解性と成膜時に発生する昇華物を低減することが可能なレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】 芳香環含有化合物（Ａ）の芳香環構造と芳香族ビニル化合物（Ｂ）のビニル基との反応により得られる構造基（Ｃ）を有するノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物。

Inventors:
Takafumi Endo
Keisuke Hashimoto
Nishimaki Hirokazu
Rikimaru Sakamoto
Application Number:
JP2016511520A
Publication Date:
April 13, 2017
Filing Date:
March 17, 2015
Export Citation:
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Assignee:
Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/11; C08G8/30; C08G12/40; G03F7/40; H01L21/027
Domestic Patent References:
JP2009229666A2009-10-08
Foreign References:
WO2007105776A12007-09-20
WO2013146670A12013-10-03
WO2013047516A12013-04-04
Attorney, Agent or Firm:
Hanabusa Patent and Trademark Office



 
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