Title:
A system and a method for equilibrium consumption of the target in a pulse double magnetron sputtering (DMS) process
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016527400
Kind Code:
A
Abstract:
スパッタリングシステムおよび方法が開示される。システムは第一マグネトロンと第二マグネトロンとを有する少なくとも一つの二重マグネトロン対を有し、各マグネトロンは、ターゲット材料を支持するように構成される。システムは、スイッチング構成要素および電圧センサと接続されたＤＣ電源を有するＤＭＳ構成要素をも有する。ＤＭＳ構成要素は、マグネトロンの各々への電力の印加を独立して制御し、かつマグネトロンの各々における電圧の測定値を提供するように構成される。システムは、ＤＭＳ構成要素によって提供される測定値を用いてマグネトロンの各々における電圧を制御するように構成される一つ以上のアクチュエータをも含む。ＤＭＳ構成要素および一つ以上のアクチュエータは、マグネトロンの各々における電圧の測定値に応じマグネトロンの各々に印加される電力および電圧を制御することによってターゲット材料の消費を均衡させるように構成される。
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Inventors:
Christie, David
Application Number:
JP2016527083A
Publication Date:
September 08, 2016
Filing Date:
July 16, 2014
Export Citation:
Assignee:
Advanced Energy Industries, Inc.
International Classes:
C23C14/34
Domestic Patent References:
| JP2011503362A | 2011-01-27 | |||
| JP2008053460A | 2008-03-06 | |||
| JPH07109567A | 1995-04-25 | |||
| JP2011503362A | 2011-01-27 | |||
| JP2008053460A | 2008-03-06 | |||
| JPH07109567A | 1995-04-25 |
Foreign References:
| US20040262156A1 | 2004-12-30 | |||
| WO2007046243A1 | 2007-04-26 | |||
| US20100140083A1 | 2010-06-10 | |||
| US20100140083A1 | 2010-06-10 | |||
| US20040262156A1 | 2004-12-30 | |||
| WO2007046243A1 | 2007-04-26 |
Attorney, Agent or Firm:
Hidesaku Yamamoto
Natsuki Morishita
Natsuki Morishita