Tessier, Laurent (46 quai Alphonse Le Gallo Boulogne Cedex, F-92648, FR)
| 1. | Panneau à plasma alternatif de type matriciel comportant une première dalle ou dalle avant portant un premier réseau d'électrodes (Y'1, Y"1) et une seconde dalle ou dalle arrière portant un second réseau d'électrodes (X1, X2, X3), les première et seconde dalles étant assemblées de telle sorte que le premier réseau d'électrodes soit perpendiculaire au second réseau d'électrodes et que les croisements de ces électrodes définissent une matrice de cellules, chaque cellule comportant une zone de décharge, les électrodes du second réseau étant recouvertes au niveau de chaque cellule d'au moins une zone de luminophore (B1, B2, B3) munie au moins d'une épargne (E'P1, E'P2, E'P3) au niveau des zones de décharge des cellules, la surface de chaque épargne étant formée d'un matériau cathodo. émissif comme la magnésie (MgO), caractérisé en ce que : . chaque électrode (Y'1, Y"1) du premier réseau est positionnée à proximité d'un premier bord des cellules correspondantes pour tre en dehors de la zone de décharge de ces cellules, et comporte, pour chaque cellule, une partie en saillie (Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3) en un matériau conducteur orientée en direction du bord opposé ou deuxième bord de cette cellule parallèlement à l'électrode (X1, X2, X3) du second réseau croisant cette cellule, . I'au moins une épargne (E'P1, E'P2, E'P3) de chaque cellule présente une forme allongée dans une direction parallèle à l'électrode (X1, X2, X3) du second réseau croisant cette cellule. |
| 2. | Panneau à plasma selon la revendication 1 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, le barycentre de t'épargne (E'P1, E'P2, E'P3) est plus éteigne dudit premier bord de cette cellule que le barycentre de la partie en saillie (Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3). |
| 3. | Panneau à plasma selon la revendication 2 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, la distance qui sépare ledit deuxième bord de cette cellule de l'extrémité la plus proche de t'épargne (E'P1, E'P2, E'P3) est inférieure ou égale à 1/4 du pas des électrodes du premier réseau. |
| 4. | Panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications à 3 caractérisé en ce que, pour chaque cellule, en repérant sur une direction parallèle à l'électrode (X1, X2, X3) du second réseau la position de l'extrémité de la partie en saillie (Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3) du côté dudit second bord de cellule et la position de l'extrémité de t'épargne (E'P1, E'P2, E'P3) du côté dudit premier bord de cellule, . lorsque ladite extrémité de t'épargne est plus éloignée dudit premier bord que ladite extrémité de la partie en saillie, t'écart entre ces positions est inférieur ou égal à 1/8 du pas des électrodes du premier réseau, . lorsque ladite extrémité de t'épargne est plus proche dudit premier bord que ladite extrémité de la partie en saillie, t'écart entre ces positions est inférieur ou égal à 1/4 du pas des électrodes du premier réseau. |
| 5. | Panneau à plasma selon la revendication 4, caractérisé en ce que la partie en saillie (Z,, Z2, Z3, Z',, Z'2, Z'3) recouvre au moins en partie la zone de décharge de la cellule correspondante. |
| 6. | Panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que, pour chaque cellule, la somme de la longueur de la partie en saillie (Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3) et de la longueur de t'épargne (E'P1, E'P2, E'P3) est supérieure ou égale à 60% du pas des électrodes du premier réseau. |
| 7. | Panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la capacité électrostatique formée entre la surface dégagée au niveau de l'épargne E'P1, E'P2, E'P3 et l'électrode. colonne sousjacente à cette épargne X1, X2, X3 ne soit pas différente de plus de 20% de la capacité électrostatique formée entre la partie en saillie Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3 et la surface de la couche diélectrique qui recouvre cette partie en saillie. |
| 8. | Panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la partie en saillie est réalisée en un matériau conducteur transparent tel que l'oxyde d'indium et d'étain (ITO). |
| 9. | Panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la partie en saillie est réalisée en un matériau conducteur opaque. |
| 10. | Panneau à plasma selon la revendication 9 caractérisé en ce que ladite partie en saillie est formée de barreaux conducteurs opaques disposés en grilles. |
| 11. | Panneau à plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce qu'il comporte un réseau de barrières s'étendant dans la direction du second réseau d'électrodes, entre lesdites électrodes. |
| 12. | Panneau à plasma selon la revendication 11, caractérisé en ce que les épargnes des cellules formant un pixel sont alignées. |
| 13. | Panneau à plasma selon la revendication 11, caractérisé en ce que les épargnes des cellules formant un pixel sont arrangées en quinconce. |
De manière connue, les panneaux à plasma alternatifs de type matriciel fonctionnent sur le principe d'une décharge électrique dans les gaz et utilisent seulement deux électrodes croisées situées sur des substrats différents pour définir et commander la décharge.
Comme représenté sur les figures 1 et 2, les panneaux à plasma de type matriciel ou bi-substrats comportent deux substrats ou dalles 2,3 dont l'une généralement appelée dalle avant 2 est située du côté de l'observateur.
Cette dalle 2 porte un premier réseau d'électrodes appelé électrodes-lignes dont deux seulement Y1, Y2 sont représentées. Les électrodes-lignes Y1, Y2 sont sensiblement parallèles et espacées d'un pas py. Dans le cas des panneaux à plasma alternatifs, les électrodes-lignes Y1, Y2 sont recouvertes d'une couche 5 d'un matériau diélectrique de type connu qui peut tre aussi recouverte d'une couche mince cathodo-émissive de magnésie (MgO) non représentée. La magnésie présente t'avantage d'émettre une quantité importante d'électrons secondaires sous l'effet d'un bombardement ionique, ce qui permet de diminuer les tensions nécessaires à l'obtention d'une décharge.
La seconde dalle 3 appelée dalle arrière porte un second réseau d'électrodes appelées électrodes-colonnes dont seulement cinq électrodes X1 à X5 sont représentées. Les électrodes-colonnes X1 à X5 sont sensiblement parallèles et espacées d'un pas px. Dans le cas des panneaux à plasma couleur, le pas px vaut environ le tiers du pas py et peut tre compris, par exemple, entre 100 um et 500 um, suivant la définition de l'image.
Les deux dalles 2,3 sont généralement en verre. Elles sont assemblées l'une à l'autre de manière à ce que les électrodes-lignes Y1, Y2 soient sensiblement perpendiculaires aux électrodes-colonnes X1 à X5. Les deux dalles 2,3, une fois assemblées, délimitent un espace 13 qui est destiné à tre rempli de gaz, formé en général d'un mélange de gaz rares.
Comme représenté sur la figure 1, sur la dalle arrière 3, les électrodes-colonnes X1 à X5 sont recouvertes d'une couche épaisse 6 de matériau diélectrique qui peut tre aussi recouverte d'une couche mince cathodo-émissive de magnésie (MgO) afin d'offrir les mmes avantages d'émission secondaire d'électrons que ceux déjà décrits ci-dessus. Cette couche est elle-mme recouverte de trois bandes B1, B2, B3 de luminophores correspondant respectivement aux couleurs verte, rouge, bleue, les bandes luminophores B1, B2, B3 étant déposées sur et parallèlement aux électrodes- colonnes X1 à X5.
D'autre part, comme représenté sur les figures 1 et 2, la dalle arrière 3 comporte aussi un réseau de barrières 11 sensiblement parallèles aux électrodes-colonnes X1 à X5 et disposées entre deux électrodes-colonnes X1- X5 adjacentes. Les barrières séparent deux bandes luminophores adjacentes.
Lorsqu'elles sont portées à un potentiel approprié, les deux électrodes X1, Y1 situées sur les deux dalles 2,3 induisent une décharge dans le gaz. La zone de décharge possède une section qui correspond sensiblement à la surface en regard des deux électrodes X1, Y1 en vis-à-vis, comme représenté schématiquement sur la figure 3. Des trous ou épargnes Ep1, Ep2, Ep3 sont réalisés dans les bandes de luminophores B1, B2, B3 au niveau de la surface en regard entre une électrode-ligne Y1, Y2 et une électrode-colonne X1-X5, de manière à libérer une portion de surface de couche de magnésie et à réduire les tensions qu'il est nécessaire d'appliquer aux électrodes pour obtenir une décharge. Ces épargnes confinent la décharge et délimitent des zones de décharge.
Dans le cas d'un panneau à plasma de type couleur tel que représenté sur la figure 1, les épargnes Ep1, Ep2, Ep3 d'un mme pixel p sont alignées selon une mme électrode-ligne Y1 et sont séparées d'une distance égale au pas px.
Selon un autre mode de réalisation représenté sur la figure 2, les épargnes Ep1, Ep2, Ep3 d'un mme pixel p trichrome peuvent tre disposées en triangle. Dans ce cas, les électrodes-lignes Y1, Y2 sont dédoublées en deux sous-électrodes Y1 a, Y1 b ou Y2a, Y2b de manière à passer au niveau des trois
épargnes Ep1, Ep2, Ep3 en triangle du pixel p. Avec de telles électrodes-lignes, on diminue la résistance de ligne, ce qui améliore le passage du courant de décharge.
Quel que soit le type de structure matricielle utilisée, à savoir le motif en ligne tel que représenté à la figure 1 ou le motif dit en triangle ou en quinconce tel que représenté à la figure 2, les décharges d'entretien s'effectuent aux intersections d'un réseau d'électrodes-lignes et d'un réseau d'électrodes-colonnes. Or, ce type de structure matriciel comporte deux limitations majeures en ce qui concerne le rendement lumineux et la luminance.
En effet, la décharge matricielle est de courte durée, car le dépôt de charges venant limiter le courant sur les couches diélectriques 5,6 ne s'effectue que sur la surface de t'épargne Ep1, Ep2, Ep3 en intersection avec l'électrode en face avant. La quantité de lumière émise par décharge est donc faible et nécessite de travailler à plus haute-fréquence, ce qui pénalise le rendement lumineux.
D'autre part, comme représenté sur la figure 3, pendant ce dépôt de charges, la position de la décharge est statique au-dessus de l'épargne Ep1, Ep2, Ep3....
Ep6, en face arrière. La partie de luminophore proche de cette épargne est donc fortement sollicitée par l'excitation UV durant le temps de décharge, ce qui a pour résultat une chute du rendement du luminophore due à la non- linéarité de réponse de ce dernier. De plus, le rendement lumineux de la décharge dépend fortement du champ électrique au sein de cette décharge.
Plus celui-ci est faible, plus on favorise l'excitation du gaz et la production de photons ultraviolets. Dans les structures représentées aux figures 1 et 2, la décharge a toujours une dimension constante correspondant à l'espacement inter-électrodes et le champ électrique qui règne au sein de cette décharge est élevé, ce qui limite le rendement de la décharge.
La présente invention a donc pour but de proposer une nouvelle structure pour des panneaux à plasma alternatifs de type matriciel ou bi- substrats qui permet d'améliorer la luminance et le rendement lumineux du panneau. La présente invention a aussi pour but de proposer une nouvelle structure pour panneaux à plasma de type bi-substrats qui entraîne à la fois
une augmentation de la qualité d'image et une diminution de la puissance consommée par le panneau.
Ainsi, la présente invention concerne un panneau à plasma alternatif de type matriciel comportant une première dalle ou dalle avant portant un premier réseau d'électrodes et une seconde dalle ou dalle arrière portant un second réseau d'électrodes, les première et seconde dalles étant assemblées de telle sorte que le premier réseau d'électrodes soit perpendiculaire au second réseau d'électrodes et que les croisements de ces électrodes définissent une matrice de cellules, chaque cellule comportant une zone de décharge, les électrodes du second réseau étant recouvertes au niveau de chaque cellule d'au moins une zone de luminophore munie au moins d'une épargne au niveau des zones de décharge des cellules, la surface de chaque épargne étant formée d'un matériau cathodo-émissif comme la magnésie (MgO), caractérisé en ce que : -chaque électrode du premier réseau est positionnée à proximité d'un premier bord des cellules correspondantes pour tre en dehors de la zone de décharge de ces cellules, et comporte, pour chaque cellule, une partie en saillie en un matériau conducteur orientée en direction du bord opposé ou deuxième bord de cette cellule parallèlement à l'électrode du second réseau croisant cette cellule, -I'au moins une épargne de chaque cellule présente une forme allongée dans une direction parallèle à l'électrode du second réseau croisant cette cellule.
L'invention peut également présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes : -pour chaque cellule, le barycentre de t'épargne est plus éteigne dudit premier bord de cette cellule que le barycentre de la partie en saillie.
-pour chaque cellule, la distance qui sépare ledit deuxième bord de cette cellule de l'extrémité la plus proche de l'épargne est inférieure ou égale à /4 du pas des électrodes du premier réseau.
Dans tous les cas, les épargnes ont une forme allongée selon la direction des parties en saillie.
D'autres caractéristiques avantageuses du panneau selon l'invention sont définies dans les revendications dépendantes.
Ainsi, selon un mode de réalisation préférentiel, la partie en saillie recouvre au moins en partie la zone de décharge de la cellule correspondante.
La longueur de la partie en saillie est inférieure au pas des électrodes du premier réseau. La partie en saillie peut tre réalisée en un matériau conducteur transparent tel que l'oxyde d'indium et d'étain (ITO), ou en un matériau opaque plus conducteur et donc, de forme plus étroite.
Enfin ce type de panneau à plasma alternatif peut comporter un réseau de barrières s'étendant dans la direction du second réseau d'électrodes entre lesdites électrodes ; il peut tre du type à épargnes alignées à épargnes disposées en triade ou quinconce.
D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention apparaîtront à la lecture de la description de différents modes de réalisation, cette description étant faite avec référence aux dessins ci-annexés, dans lesquels : La figure 1 déjà décrite est une vue en perspective éclatée d'un premier mode de réalisation d'un panneau à plasma alternatif de type matriciel selon fart antérieur.
La figure 2 est une vue semblable à celle de la figure 1 d'un autre mode de réalisation d'un panneau à plasma du type matriciel selon fart antérieur.
La figure 3 est une vue en perspective schématique représentant la zone de décharge dans le cas des panneaux à plasma des figures 1 et 2.
La figure 4 est une vue de dessus schématique représentant un pixel d'un panneau à plasma alternatif de type matriciel selon un mode de réalisation préférentiel de la présente invention où les épargnes des différentes cellules sont alignées ; les figures 8 à 17 sont des vues de dessus d'autres modes de réalisation de l'invention ; la figure 7 est une vue de dessus d'un autre mode de réalisation de f invention représenté ici au niveau d'une seule cellule.
La figure 5 est une vue en perspective schématique montrant la décharge dans le cas de la structure conforme au mode de réalisation préférentiel de la présente invention.
La figure 6 est une vue schématique de dessus d'un panneau à plasma de type matriciel à épargnes en quinconce selon un autre mode de réalisation de la présente invention.
Pour simplifier la description, dans les figures, les mmes éléments portent les mmes références. D'autre part, dans la description, les termes « dalle avant », « dalle arrière », « électrode-ligne », « électrode-colonne » ont été utilisés dans des buts de simplification mais ne sont en rien limitatifs.
Sur la figure 4, on a représenté schématiquement une vue de dessus d'un pixel p, d'un panneau à plasma alternatif de type matriciel conforme à un mode préférentiel de réalisation de la présente invention, plus particulièrement d'un panneau à plasma du type représenté à la figure 1.
De ce fait, le panneau à plasma de la figure 4 comporte trois électrodes-colonnes X1, X2, X3 réalisées de manière connue sur la dalle arrière d'un panneau à plasma et qui sont recouvertes d'une couche épaisse d'un matériau diélectrique sur lequel on a déposé une couche mince cathodo- émissive à base de MgO, puis trois bandes luminophores B1, B2, B3, chaque bande correspondant à une couleur, respectivement rouge, verte, bleue. Les bandes luminophores B1, B2, B3 sont déposées parallèlement aux électrodes- colonnes X1, X2, X3 au-dessus de celles-ci. Dans le mode de réalisation de la figure 4, les barrières séparant chaque bande luminophore n'ont pas été représentées. D'autre part, de manière connue, dans un panneau alternatif de type matriciel, dans chaque bande B1, B2, B3 ont été réalisées des surfaces de retrait de matière luminophore appelée épargnes E'P1, E'P2, E'P3, de manière à faire réapparaître dans ces épargnes la couche mince de matériau cathodo-émissif. Ces épargnes sont réalisées au-dessus des électrodes- colonnes X1, X2, X3. Selon l'invention, dans le mode de réalisation représenté, les épargnes E'P1, E'P2, E'P3 présentent une forme allongée rectangulaire ou oblongue dont la surface est, de préférence, équivalente à la surface d'une épargne carrée ou circulaire classique, comme représenté dans la figure 1.
Cette forme est allongée selon une direction parallèle à celle des électrodes- colonnes X1, X2, X3.
D'autre part, conformément à la présente invention, le réseau d'électrodes-lignes, à savoir Y'1 dans le mode de réalisation représenté, est réalisé sur la dalle avant et décalé vers le bord supérieur ou « premier » bord des cellules de manière à ne pas recouvrir la zone de décharge. Conformément à la présente invention, le réseau d'électrodes-lignes Y'1 qui longe le premier bord des cellules comporte des parties en saillie Z1, Z2, Z3 orientées vers le bord opposé inférieur ou « deuxième » bord de ces cellules. Ces parties en saillie Z1, Z2, Z3 sont ici uniformes rectangulaires et réalisées en un matériau conducteur transparent qui peut tre par exemple constitué par de l'oxyde d'indium et d'étain. La partie en saillie Z1, Z2, Z3 s'étend parallèlement à l'électrode-colonne X1, X2, X3 correspondante et recouvre ici au moins en partie la zone de décharge de la cellule correspondante, à savoir t'épargne E'P1, E'P2, E'P3. Comme représenté sur la figure 4, la longueur de la partie en saillie Z1, Z2, Z3 est inférieure au pas des électrodes-lignes, à savoir à py sur les figures 1 et 2.
De préférence, le barycentre de t'épargne E'P1, E'P2, E'P3 est plus éteigne du bord supérieur ou premier bord de cette cellule que le barycentre de la partie en saillie Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3.
Avec la structure de la figure 4 et comme représenté sur la figure 5, lors de I'application de tensions d'adressage sur l'électrode-colonne X1 et l'électrode-ligne Y'1, la décharge prend place entre t'épargne E'P1, E'P2, E'P3 où le matériau cathodo-émissif affleure et la partie en saillie Z1, Z2, Z3 ; grâce à la structure de panneau selon l'invention, on observe un étalement de la décharge en face arrière dans la direction d'allongement de cette épargne et en face avant le long la partie en saillie. Cet étalement permet d'augmenter le rendement lumineux de la décharge ; les outils de modélisation et les essais sur panneaux ont montré qu'avec une disposition d'électrode telle que représentée sur les figures 4 et 5, t'étaiement de la décharge pouvait tre accru de 600 à 700 % par rapport à sa taille initiale, ce qui permettait de multiplier par deux le rendement de la décharge.
De manière à assurer un étalement optimal de la décharge à la en face avant le long de la partie en saillie et en face arrière le long de t'épargne, il est préférable que la capacité électrostatique formée entre la surface dégagée au niveau de t'épargne E'P1, E'P2, E'P3 et l'électrode- colonne sousjacente à cette épargne X1, X2, X3 soit proche de la capacité électrostatique formée entre la partie en saillie Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3 et la surface de la couche diélectrique qui recouvre cette partie ; à titre indicatif, il est préférable que la différence entre ces deux capacités soit inférieure à 20% pour répartir l'étalement de la décharge entre la face avant et la face arrière ; pour obtenir des valeurs comparables de capacité, on adapte d'une manière connue en elle-mme la surface des épargnes et des parties en saillie, et/ou l'épaisseur de la couche diélectrique sous ces épargnes et sur ces parties en saillie.
D'autre part, le mouvement d'étalement de la décharge et la propagation des zones de forte émission ultraviolet dans le sens de la longueur de la cellule permettent de répartir le flux ultraviolet le long des luminophores qui bordent les épargnes, de réduire ainsi la densité du flux ultraviolet auxquels ces luminophores sont soumis. Le flux ultraviolet étant ainsi distribué sur une plus grande surface, on observe une diminution de la saturation des luminophores qui contribue également à l'augmentation du rendement lumineux.
De plus, comme représenté sur la figure 6, la présente invention peut aussi s'appliquer à un panneau à plasma alternatif de type matriciel présentant une structure en quinconce. Dans le cas décrit, le réseau d'électrodes-lignes tel que Y"1 présente une structure en créneau et les parties en saillie Z'1, Z'2, Z'3 sont positionnées alternativement de chaque côté de l'électrode-ligne Y"1 de manière à recouvrir en partie les épargnes E'P1, E'P2, E'P3 en quinconce réalisées dans les bandes luminophores B1, B2, B3.
Selon encore une variante de réalisation représentée à la figure 7, I'électrode-colonne X'1 peut tre décalée de manière à tre positionnée sous les barrières en dehors de la zone de décharge. Dans ce cas, au niveau de t'épargne EP1, I'électrode-colonne X'1 présente une partie en saillie X"1 venant
sous la zone d'épargne EP1 de manière à tre recouverte par la partie en saillie Z1.
Les figures 8 à 10, et 17 représentent des variantes concernant la position et la taille des parties en saillies Z1, Z2, Z3 et des épargnes E'P1, E'P2, E'P3 où les différents éléments ont été désignés par simplification avec les mmes références qu'à la figure 4 ; les épargnes et les parties en saillie peuvent se recouvrir partiellement comme représenté aux figures 4 (déjà décrite), 9 et 10, ou ne pas se recouvrir comme représenté à la figure 8 ; elles peuvent tre décalées les unes par rapport aux autres dans le sens de la largeur de la cellule, transversalement aux électrodes X1, X2, X3, comme à la figure 17 ; afin d'assurer un allongement important de la décharge et d'optimiser l'amélioration du rendement lumineux sans risquer de trop augmenter la tension d'amorçage de la décharge, il est préférable que, pour chaque cellule, en repérant le long de la cellule ou sur une direction parallèle à l'électrode (X1, X2, X3) du second réseau d'une part la position de l'extrémité de la partie en saillie (Z1, Z2, Z3, Z'1, Z'2, Z'3) du côté du second bord inférieur de cellule et la position de l'extrémité de t'épargne (E'P1, E'P2, E'P3) du côté du premier bord supérieur de cellule, -lorsque cette extrémité de t'épargne est plus éloignée du premier bord que cette extrémité de la partie en saillie, c'est à dire qu'épargne et partie en saillie ne se recouvrent pas, l'écart entre ces positions est inférieur ou égal à 1/8 du pas des électrodes du premier réseau ; un écart supérieur rendrait les décharges plus difficiles à obtenir ; -lorsque cette extrémité de l'épargne est plus proche du premier bord que cette extrémité de la partie en saillie, c'est à dire qu'épargne et partie en saillie se recouvrent, l'écart entre ces positions est inférieur ou égal à % du pas des électrodes du premier réseau, de manière à limiter le recouvrement et à optimiser I'allongement de la décharge.
Dans le cas de la figure 8 où les épargnes et les parties en saillie ne se recouvrent pas, il est préférable de diminuer la hauteur de t'espace qui sépare les deux dalles 2,3 pour éviter d'avoir à augmenter la tension
d'amorçage de la décharge ; cette modification n'a pas de conséquence néfaste sur l'étalement de la décharge.
Dans le cas de la figure 9 où les épargnes et les parties en saillie se recouvrent et où la longueur des parties en saillie est beaucoup plus grande que celle des épargnes, il convient de compenser la différence de capacité électrostatique entre la zone d'épargne et celle de la partie en saillie, soit par une augmentation de la largeur de t'épargne, soit par une diminution de l'épaisseur de la couche d'émail 6 de la dalle arrière 3, notamment au niveau de cette épargne.
Dans le cas de la figure 10 où les épargnes et les parties en saillie se recouvrent et où la longueur des parties en saillie est beaucoup plus petite que celle des épargnes, il convient de compenser la différence de capacité électrostatique entre la zone d'épargne et celle de la partie en saillie, soit par une augmentation de la largeur de la partie en saillie, soit par une diminution de l'épaisseur de la couche d'émail 5 sur la dalle avant 2, notamment au niveau de cette partie en saillie.
Selon une variante préférentielle de l'invention, afin d'assurer un allongement important de la décharge et d'optimiser l'amélioration du rendement lumineux, pour chaque cellule, la somme de la longueur de la partie en saillie Z1, Z2, Z3 et de la longueur de t'épargne E'P1, E'P2, E'P3 est supérieure ou égale à 60% du pas des électrodes du premier réseau.
Les figures 11 à 16, où les éléments sont référencés de la mme manière qu'à la figure 4, représentent des variantes concernant la forme et le matériau des parties en saillies (Z1, Z2, Z3) : -Figure 11 : les parties en saillie Z1, Z2, Z3 sont confondues en une seule bande continue en matériau conducteur transparent.
-Figures 12 à 16 : les parties en saillies Z1, Z2, Z3 sont réalisées en matériau conducteur opaque, ce qui est avantageux du point de vue économique ; ce matériau étant intrinsèquement beaucoup plus conducteur que la plupart des matériaux conducteurs transparents, il convient que les éléments de ces parties soient aussi étroits que possible de manière à
conserver aux cellules une ouverture optique aussi grande que possible au travers de la dalle avant : o Figure 12 : les parties en saillie Z1, Z2, Z3 comportent une extrémité élargie du côté du bord inférieur ou second bord de cellule, ce qui facilite I'allumage de la décharge. o Figure 13 : les parties en saillie Z1, Z2, Z3 sont chacune en forme de « peigne » à trois « dents », chaque « dent » étant orientée vers le bord inférieur ou second bord de cellule ; de préférence, ces dents ont des longueurs identiques pour faciliter t'allumage de la décharge. o Figures 14,15 et 16 : les parties en saillie sont formées de barreaux conducteurs opaques disposés en grilles, certains barreaux étant orientés parallèlement aux électrodes X1, X2, X3 dans le sens de la longueur de la cellule et d'autres étant orientés perpendiculairement à ces électrodes dans le sens de la largeur de la cellule ; dans le cas des figures 14 et 16, les barreaux perpendiculaires forment des conducteurs continus d'une cellule à l'autre et correspondent donc à des bus ; les barreaux orientés parallèlement aux électrodes X1, X2, X3 peuvent tre placés entre les cellules (figure 14), au dessus des épargnes (figure 16), ou de part et d'autre des épargnes (figure 15).
L'invention s'applique également à de nombreuses variantes concernant la forme des épargnes, qui ne sont pas décrites ici.
II est évident pour l'homme de I'art que la présente invention peut tre utilisée dans tous types de panneaux à plasma de type matriciel ou bi- substrats, notamment des panneaux à plasma de ce type ne comportant pas de barrières, l'espacement des épargnes suffisamment profondes étant réalisé dans une couche diélectrique épaisse de manière à obtenir des cellules fermées.
De plus, de manière connue, le panneau à plasma du type matriciel peut comporter un réseau noir pour diminuer le coefficient de réflexion diffuse et les parties en saillie transparentes en face avant peuvent tre remplacées par une grille métallique fine ou par un bus métallique se terminant par une zone plus large recouvrant en partie t'épargne correspondante.
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