【발명의 명칭】

반사 방지 필름 , 편광판 및 디스흘레이 장치

【기술분야】

관련 출원（들）과의 상호 인용

본출원은 2018년 3월 16일자 한국 특허 출원 제 10-2018-0030717호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며， 해당 한국 특허 출원의 문헌에 개시된 모든 내용은본 명세서의 일부로서 포함된다.

본 발명은 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.

【발명의 배경이 되는 기술】

일반적으로 卵， 10） 등의 평판 디스플레이 장치에는 외부로부터 입사되는 빛의 반사를 최소화하기 위한 반사 방지 필름이 장착된다.

빛의 반사를 최소화하기 위한 방법으로는 수지에 무기 미립자 등의 필러를 분산시켜 기재 필름 상에 코팅하고 요철을 부여하는 방법（크 卜 요 코팅）; 기재 필름 상에 굴절율이 다른 다수의 층을 형성시켜 빛의 간섭을 이용하는 방법 （ - 이! : 能 코팅） 또는 이들을 혼용하는 방법 등이 있다.

그 중， 상기 코팅의 경우 반사되는 빛의 절대량은 일반적인 하드 코팅과 동등한 수준이지만, 요철을 통한 빛의 산란을 이용해 눈에 들어오는 빛의 양을 줄임으로써 저반사 효과를 얻을 수 있다 . 그러나 , 상기 코팅은 표면 요철로 인해 화면의 선명도가 떨어지기 때문에， 최근에는 코팅에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다.

상기 코팅을 이용한 필름으로는 기재 필름 상에 하드 코팅층（고굴절율층） , 저반사 코팅층 등이 적층된 다층 구조인 것아 상용화되고 있다. 그러나， 상기와 같이 다수의 층을 형성시키는 방법은 각 층을 형성하는 공정을 별도로 수행함에 따라 층간 밀착력（계면 접착력）이 약해 내스크래치성이 떨어지고 반복적인 공정에 의하여 제조 비용이 상승된다는 단점이 있다.

또한, 이전에는 반사 방지 필름에 포함되는 저굴절층의 내스크래치성을 향상시키기 위해서는 나노미터 사이즈의 다양한 입자（예를 들어， 실리카, 알루미나， 제올라이트 등의 입자)를 첨가하는 방법이 주로 시도되었다. 그러나， 상기와 같이 나노미터 사이즈의 입자를 사용하는 경우 저굴절층의 반사율을 낮추면서 내스크래치성을 동시에 높이기 어려운 한계가 있었으며, 나노미터의 사이즈의 입자로 인하여 저굴절층 표면이 갖는 방오성이 크게 저하되었다.

이에 따라， 외부로부터 입사되는 빛의 절대 반사량을 줄이고 표면의 내스크래치성과 함께 방오성을 향상시키기 위한 많은 연구가 이루어지고 있으나， 이에 따른 물성 개선의 정도가 미흡한실정이다.

【발명의 내용】

【해결하고자 하는 과제】

본 발명은 높은 투광율， 높은 내스크래치성 및 방오성을 가지면서도 낮은 반사율을 구현하여 디스플레이 장치의 화면의 선명도를 높일 수 있는 반사 방지 필름을 제공하기 위한 것이다.

또한， 본 발명은 상기 낮은 반사율을 구현하는 반사 방지 필름을 포함하여 높은 선명도 및 우수한 내구성을 가지는 편광판을 제공하기 위한 것이다.

또한, 본 발명은 상기 반사 방지 필름을 포함하며 높은 화면의 선명도를 제공하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.

【과제의 해결 수단】

본 명세서에서는, 광투과성 기재; 상기 광투과성 기재 상에 형성되는 하드 코팅층 ; 및 상기 하드 코팅층 상에 형성되는 저굴절층 ;을 포함하고， 상기 저굴절층은 바인더 수지와 고굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에세 .55 이상의 굴절율을 갖는 제 1영역과 바인더 수지와 저굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에서 1.45 이하의 굴절율을 갖는 제 2영역을 포함하며， 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역 및 제 2영역 각각에 대하여 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 하기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 ( f i tt ing)하였을 때， 상기 제 1영역에 대한 A값과 상기 제 2영역에 대한 A값의 차이가 0.200 이상인， 반사 방지 필름이 제공된다.

[일반식 1] 상기 일반식 1에서, n(Aj는 X파장에서의 굴절율(refractive index)이고， X는 300 ran 내지 1800nm의 범위이고， A, B 및 C는 코쉬 파라미터이다. 또한， 본 명세서에서는， 광투과성 기재; 상기 광투과성 기재 상에 형성되는 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층 상에 형성되는 저굴절층;을 포함하고， 상기 저굴절층은 바인더 수지와 고굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에서 1.55 이상의 굴절율을 갖는 제 1영역과 바인더 수지와 저굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에서 1.45 이하의 굴절율을 갖는 제 2영역을 포함하며， 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역에 대하여 타원편광법 (ellipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 최적화 (fitting)하였을 때, 하기 A는 1.50 내지 2.00이고 B는 0 내지 0.10 이고 C는 0 내지 0.01 의 조건을 만족하는， 반사 방지 필름이 제공된다.

또한, 본 명세서에서는, 상술한 반사 방지 필름을 포함하는 편광판이 제공된다.

또한, 본 명세서에서는, 상술한 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.

이하 발명의 구체적인 구현예 (들)에 따른 반사 방지 필름， 편광판 및 디스플레이 장치에 관하여 보다상세하게 설명하기로 한다. 본 명세서에서, 광중합성 화합물은 빛이 조사되면， 예를 들어 가시 광선 또는자외선의 조사되면 중합 반응을 일으키는 화합물을 통칭한다. 또한, 함불소 화합물은 화합물 중 적어도 1개 이상의 불소 원소가 포함된 화합물을 의미한다.

또한， (메트)아크릴 [ (Meth)acryl]은 아크릴 (acryl) 및 메타크릴레이트 (Methacryl) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다. 또한, (공)중합체는 공중합체 (co-polymer) 및 단독 중합체 (homo_ polymer) 양쪽모두를 포함하는 의미이다.

또한， 중공 실리카 입자 (si l i ca hol low part i cles)라 함은 규소 화합물 또는 유기 규소 화합물로부터 도출되는 실리카 입자로서， 상기 실리카 입자의 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미한다. 발명의 일 구현예에 따르면, 광투과성 기재; 상기 광투과성 기재 상에 형성되는 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층 상에 형성되는 저굴절층;을포함하고，

상기 저굴절층은 바인더 수지와 고굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm 의 파장에세 .55 이상의 굴절율을 갖는 제 1영역과 바인더 수지와 저굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에서 1.45 이하의 굴절율을 갖는 제 2영역을포함하며，

상기 저굴절층에 포함된 제 1영역 및 제 2영역 각각에 대하여 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 하기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)하였을 때, 상기 제 1영역에 대한 A값과 상기 제 2영역에 대한 A값의 차이가 0.200 이상인， 반사 방지 필름이 제공된다.

[일반식 1]

상기 일반식 1에서 , 11( X )는 \파장에서의 굴절율 ( 군 년근 이고， 入는 300 ■ 내지 1800ä의 범위이고, ¾ 및 (：는 코쉬 파라미터이다.

이전에는 반사 방지 필름의 반사율을 조절하기 위하여 1종 이상의 미세 입자를 첨가하였으나， 반사율을 일정 수준 이상으로 낮추기에는 한계가 있었으며, 또한 반사 방지 필름의 내스크래치성이나 방오성이 저하되는문제점아 있었다. 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

이에, 본 발명자들은 반사 방지 필름에 관한 연구를 진행하여， 상기 반사 방지 필름에 포함되는 저굴절층이 상술한 제 1영역과 제 2영역을 포함하고， 이러한 제 1영역 및 제 2영역 각각에 대하여 타원편광법（61 1 30111 ）으로 측정한 편극의 타원율을 하기 _. 일반식 1의

대한쇼값과 상기 제 2영역에 대한 쇼값의 차이가 0.200 이상이면， 반사 방지 필름이 상당히 낮은 수준의 반사율과 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을 완성하였다.

상기 코쉬 파라미터 쇼는최대 파장에서의 굴절율에 관계되는데， 상기 제 1영역에 대한 쇼값과 상기 제 2영역에 대한 쇼값의 차이가 0.200 아상, 0.200내지 0.500， 또는 0.200 내지 0.400임에 따라서, 상기 구현예의 반사 방지 필름은 최적화된 굴절율 분포를 유지하면서도 보다 낮은 반사율을 구현하고, 스크래치 또는 외부 오염 물질에 대하여 상대적으로 안정적인 구조를가질수 있다.

보다 구체적으로, 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역에 대하여 측정한 편극의 타원율을 _, 상기 일반식 1의 코쉬 모델 1110（161）로 최적화（ 썽）하였을 때， 상기 저굴절증에 포함된 제 1영역에 대하여， 상기 쇼는 쇼는 1.50 내지 2.00 , 또는 1.53 내지 1.90 , 또는 1.55내지 1.85일 수 있과.

또한， 상기 저굴절층에 포함된 제 2영역에 대하여， 타원편광법（61 1 ^30111 ）으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 （ 1110（161）로 최적화（군ᅵ 썸）하였을 때， 상기 쇼는 1.0내지 1.40 , 또는 1. 1내지 1.40 , 또는 1.2내지 1.40 일 수 있다.

상기 타원편광법（61 1 301116 으로 측정한 편극의 타원율 및 관련 데이터（ 1 ^30!11 （1^3（ ,스））는 통상적으로 알려진 방법 및 장치를 사용하여 측정할 수 있다. 예를 들어， 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역 및 제 2영역에 대하여 : . ¥001 1301 00 - 1-2000 의 장치를 이용하여, 70 ^° 의 입사각을 적용하고 38011111 내지 1000 11이의 파장 범위에서 선편광을 측정할 수 있다. 상기 측정된 선평광 측정 데이터（먀1 ^3011161； Complete EASE software를 이용하여 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 상기 제 1영역 및 제 2영역으로 나누여 적용하여 평균제곱오차 (Mean Square Error, MSE)가 5이하， 또는 3이하가 되도록 최적화 (fitting)할 수 있다.

통상적으로 알려진 바와 같이， 평균제곱오차는 오차 (잔차)의 제곱에 대한 평균을 취한 값으로 통계적 추정의 정확성에 대한 질적인 척도이며, MSE가 작을수록 추정의 정확성이 높다고 할 수 있다. 상기 평균제곱오차 (MSE)은 통상적으로 알려진 방법이나 통계 프로그램 등을 통해서 산출할 수 있으며， 예를 들어 선평광 측정 데이터의 최소제곱추정량 (least square estimator)을 산출하고 상기 산출된 최소제곱추정량을 이용하여 평균제곱오차 (Mean Square Error , MSE)를 도출할수 있다. 한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 광투과성 기재; 상기 광투과성 기재 상에 형성되는 하드 코팅층; 및 상기 하드 코팅층 상에 형성되는 저굴절층;을 포함하고，

상기 저굴절층은 바인더 수지와 고굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에서 1.55 이상의 굴절율을 갖는 제 1영역과 바인더 수지와 저굴절 무기 나노 입자를 포함하고 550nm의 파장에서 1.45 이하의 굴절율을 갖는 제 2영역을포함하며，

상기 저굴절층에 포함된 제 1영역에 대하여 타원편광법 (ellipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 최적화 (fitting)하였을 때， 하기 A는 1.50 내지 2.00이고 B는 0 내지 0.10 이고 C는 0 내지 0.01 의 조건을 만족하는， 반사방지 필름이 제공될 수 있다.

[일반식 1] 상기 일반식 1에서， 11(入)는 X파장에서의 굴절율 ( 크 근 index)이고， 는 300 nm 내지 1800nm의 범위이고， A, B 및 C는 코쉬 파라미터이다.

이전에는 반사 방지 필름의 반사율을 조절하기 위하여 1종 이상의 미세 입자를 첨가하였으나, 반사율을 일정 수준 이상으로 낮추기에는 한계가 있었으며, 또한 반사 방지 필름의 내스크래치성이나 방오성이 저하되는 문제점이 있었다.

이에, 본 발명자들은 반사 방지 필름에 관한 연구를 진행하여， 상기 반사 방지 필름에 포함되는 저굴절층이 바인더 수지와 고굴절 무기 나노 입자를 포함하고 상술한 제 1영역 및 제 2영역을 포함하고， 상기 제 1영역이 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)하였을 때, 상기 A는 1.50 내지 2.00이고 B는 0 내지 0.10 이고 C는 0 내지 0.01 의 조건을 만족하면， 반사 방지 필름이 상당히 낮은 수준의 반사율과 높은 투광율을 가지면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을완성하였다.

구체적으로， 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역에 대하여, 상기 A는 1.50 내지 2.00 , 또는 1.53 내지 1.90， 또는 1.55 내지 1.85 이면서， 하기 묘는 0 내지 0.10， 또는 0 내지 0.05， 또는 0 내지 0.01 이면서, 하기 C는 0 내지 0.01， 또는 0 내지 0.005, 또는 0 내지 0.001 인 조건을 만족할 수 있으며， 이에 따라 상기 구현예의 반사 방지 필름은 최적화된 굴절율 분포를 유지하면서도 보다 낮은 반사율을 구현하고， 스크래치 또는 외부 오염 물질에 대하여 상대적으로 안정적인 구조를 가질 수 있다.

또한， 상기 저굴절층에 포함된 제 2영역에 대하여 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 하기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)하였을 때, 하기 A는 1.0 내지 1.40 또는 1.10 내지 1.40, 또는 1.20 내지 1.40 이면서， 하기 모는 0 내지 0.1， 또는 0 내지 0.05， 또는 0 내지 0.01 이면서， 하기 C는 0 내지 0.01 , 또는 0 내지 0.005, 또는 0 내지 0.001 인 조건을 만족할수 있다. 상술한 저굴절층에 포함된 제 1영역 및 제 2영역 각각에서의 코쉬 파라미터 A , B 및 C는 각각 파장에 따른 굴절율 및 소광 계수의 변화에 관계되며, 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역이 상술한 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i t t ing)한 결과에 의한 코쉬 파라미터 A, B 및 C 범위를 만족하는 경우， 내부에 최적화된 전자 밀도 및 굴절율 분포를 유지할 수 있으며, 이에 따라 상당히 낮은 수준의 반사율을 구현하면서도 스크래치 또는 외부 오염 물질에 대하여 상대적으로 안정적인 구조를 가질 수 있다.

구체적으로， 상기 코쉬 파라미터 A는 최대 파장에서의 굴절율에 관계되며， B 및 C는 파장에 따른 굴절율의 변화 정도와 관계된다. 이에 따라, 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역 및 제 2영역 각각이 상술한 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)한 결과에 의한 코쉬 파라미터 A, B 및 C 범위를 만족하는 경우에, 상술한 효과가 보다 향상되고 극대화될 수 있다.

상기 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율 및 관련 데이터 (El l ipsometry dataC W기) )는 상기 일 구현예에 반사 방지 필름에 관하여 상술한 방법 등으로 측정 및 확인할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율은 70 ^° 의 입사각을 적용하고 380nm 내지 1000 nm의 파장 범위에서 선편광을 측정하여 결정할 수 있다. 이하에서는 상술한 구현예 (들)의 반사 방지 필름의 구체적인 내용에 대하여 설명한다.

상술한 구현예 (들)의 반사 방지 필름에서 상기 제 1영역 및 제 2영역은 각각에 포함되는 입자의 종류의 차이나 상기 입자의 굴절율 차이， 또는 각각 영역이 갖는 굴절율의 차이로구별될 수 있다.

상기 저굴절층에서 상기 제 1영역 및 제 2영역 각각이 갖는 입체 형상이나 단면 형상은 크게 제한되지 않으며， 예를 들어 제 1영역 및 제 2영역은 각각의 경계나 이들간의 계면이 명확하지 않은 분포 형태를 가질 수 도 있으며， 또한 상기 제 1영역 및 제 2영역 각각은 소정의 두께를 갖는 층 ( l ayer)일 수도 있고, 또한 상기 제 1영역 및 제 2영역 각각은 시각적으로 구분되는 층(layer)은 아니나 타원편광법 (eil ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 하기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 최적화(fitting)하였을 때 확인되는 계산상의 층(layer)일 수 있다.

상술한 바와 같이， 상술한 구현예 (들)의 반사 방지 필름은 상술한 특정한 구성을 만족함에 따라서 상당히 낮은 수준의 반사율을 구현할 수 있으며， 예를 들어 380nm 내지 780nm의 가시 광선 파장대 영역에서의 평균 반사율이 0.6% 이하， 또는 0.5% 이하, 또는 0.4% 이하, 또는 0.3% 이하의 반사율을 가질 수 있다. 상기 반사 방지 필름의 평균 반사율은 뒷면에 암색처리를 하고 측정할수 있다.

상술한 바와 같이， 상기 저굴절층은 바인더 수지 및 고굴절 무기 나노 입자를 포함하는 제 1영역과 바인더 수지 및 저굴절 무기 나노 입자를 포함한 제 2영역을포함할수 있다.

상기 제 1영역의 A는 1.5내지 2.00이고， 묘는 0내지 0.10이고， C는 0내지 0.01의 조건을 만족하고， 제 2영역의 A는 1.0내지 1.40이고， B는 0 내지 0.10 이고， C는 0 내지 0.01의 조건을 만족하거나， 또는 상기 제 1영역에 대한 A값과 상기 제 2영역에 대한 A값의 차이가 0.200 이상인 경우, 각 계면에서의 반사되는 빛의 상쇄간섭이 효율적으로 일어나게 되어 매우 낮은 반사율을 구현할수 있다.

상기 고굴절 무기 나노 입자와 저굴절 무기 나노 입자 각각의 종류가 크게 한정되는 것은 아니지만， 상기 고굴절 무기 나노 입자는 1.5 이상, 또는1.55 이상의 굴절율을 가질 수 있으며， 상기 저굴절 무기 입자는 1.45 이하， 또는 1.40이하의 굴절율을 가질 수 있다.

상기 고굴절 무기 나노 입자의 구체적인 예로는 이산화티타늄 (Ti¾)， 삼산화이안티몬 (Sb ₂ ¾)， 이산화지르코늄 (Zr0 ₂ )， 산화주석 (Sn0 ₂ )， 산화마그네슘 (MgO) , 산화아연 (ZnO) , 바륨타이타네이트 (BaTi03) , 산화알루미늄 (A1 ₂ 0 ₃ ) , 산화세륨 (Ce0 ₂ ) , 지르코늄타이타네이트 및 스트론륨타이타네이트으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.

상기 저굴절 무기 나노 입자의 구체적인 예로는 불화마그네슘(MgF _2), 중공실리카 및 메조포러스 실리카(mesoporous silica)로 이루어진 군에서 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.

상기 제 1영역 및 제 2영역 각각은 상기 바인더 수지 100중량부 대비 고굴절 무기 나노 입자와 저굴절 무기 나노 입자 각각 30 내지 600중량부로 포함할수 있다.

상기 제 1영역 및 제 2영역 각각에서 상술한 무기 나노 입자들의 함량이 과다해지는 경우， 상기 2종류의 입자들이 혼재되어 반사율이 높아질 수 있으며， 표면 요철이 과다하게 발생하여 내스크래치성 및 방오성이 저하될 수 있다.

상기 저굴절 무기 나노 입자의 평균 입경 대비 상기 고굴절 무기 나노 입자의 평균 입경의 비율이 0.008 내지 0.55 , 또는 0.05 내지 0.5일 수 있다. 본 발명자들은 상기 2종류의 입자 간의 평균 입경의 차이를 상술한 비율로 조절하는 경우 최종 제조되는 반사 방지 필름에서 보다 낮은 반사율을 확보하면서 향상된 내스크래치성과 방오성을 구현할 수 있다는 점을 확인하였다.

보다 구체적으로, 상기 저굴절층에서 상기 고굴절 무기 나노 입자의 평균 입경 대비 상기 저굴절 무기 나노 입자의 평균 입경의 비율이 0.008 내지 0.55 , 또는 0.05 내지 0.5 임에 따라서， 상기 저굴절층 내에서 상기 고굴절 무기 나노 입자 및 저굴절 무기 나노 입자가 서로 다른 편재 및 분포 양상을 나타낼 수 있으며, 예를 들어 상기 고굴절 무기 나노 입자 및 저굴절 무기 나노 입자 각각이 주로 분포하는 위치가 상기 하드 코팅층 및 상기 저굴절층 간의 계면을 기준으로서로 다른 거리일 수 있다.

이와 같이 상기 저굴절층에서 상기 고굴절 무기 나노 입자 및 저굴절 무기 나노 입자가 주로 분포하는 영역이 달라짐에 따라서, 상기 저굴절층이 고유한 내부 구조 및 성분들의 배열 양상을 가지게 되어 보다 낮은 반사율을 가질 수 있고， 또한 상기 저굴절층의 표면 특성 또한 함께 달라지게 되어 보다 향상된 내스크래치성과 방오성을 구현할 수 있다.

상기 고굴절 무기 나노 입자 및 저굴절 무기 나노 입자 각각의 평균 입경은 각각 상기 반사 방지 필름의 묘사진（예를 들어， 25 , 000배의 배율）에서 확인되는 상기 고굴절 무기 나노 입자 및 저굴절 무기 나노 입자의 최단 입경을 측정하여 얻어진 평균값일 수 있다. 2019/177271 1»（그1^1{2019/001695

상기 반사 방지 필름이 상술한 특성 , 예를 들어 보다낮은 반사율 및 높은 투광율을 가지면서 보다 향상되고 높은 내스크래치성 및 방오성을 구현하기 위해서 상기 고굴절 무기 나노 입자의 평균 입경이 1내지 66ä, 또는 2 내지 55ä 의 범위 이내일 수 있으며， 또한 상기 저굴절 무기 나노 입자의 평균 입경이 10 내지 120ä， 또는 30 내지 12011111의 범위 이내일 수 있다.

상기 고굴절 무기 나노 입자는 1· 내지 6加파의 직경을 가질 수 있다. 상기 저굴절 무기 나노 입자는 10ä 내지 120ä의 직경을 가질 수 있다.

상기 고굴절 무기 나노 입자 및 저굴절 무기 나노 입자의 직경은 저굴절층의 단면에서 확인되는 최단 직경을 의미할수 있다. 한편， 상술한 구현예（들）의 반사 방지 필름에서, 상기 제 1영역이 제 2영역에 비하여 상기 하드 코팅층 및 상기 저굴절층 간의 계면에 보다 가까이 위치할 수 있다. 보다 구체적으로， 상기 제 1영역이 상기 하드 코팅층 및 상기 저굴절층 간의 계면에 접하고, 상기 제 2영역이 계면과 접하는 면과다른 일면에 상기 제 1영역이 형성될 수 있다.

상기 반사 방지 필름의 저굴절층 중 상기 하드 코팅층 및 상기 저굴절층 간의 계면 가까이에 제 1영역이 위치하고 상기 계면의 반대면 쪽으로는 제 2영역이 위치함에 따라서, 상기 저굴절층 내에 서로 굴절율이 다른 2개 이상의 부분 또는 2개 이상의 층이 형성될 수 있으며, 이에 따라 각 계면에서 반사되는 빛의 효율적인 상쇄간섭으로 인하여 상기 반사 방지 필름의 반사율이 낮아질 수 있다.

상술한 바와 같이, 상기 저굴절층에서 상기 제 1영역 및 저ᅵ 2영역은 구별되는 층일 수도 있으나， 보다 낮은 반사율을 구현하기 위해서는 연속상으로 존재하되 각각에 포함되는 입자의 종류에 따라서 2개의 영역으로 구별될 수 있다. 즉， 상기 저굴절층은 제 1영역 및 제 2영역을 포함하는 단일층 고분자 필름일 수 있다.

본 명세서에서， ’단일층 고분자 필름’은 소정의 조성을 갖는 코팅액 또는 원료로부터 제조되는 연속상의 단일층이 존재하는 필름을 의미하며， 예를 들어 바인더 수지의 동일성이 있으며 상이한 종류의 입자가 편재하여 구분되는 상기 제 1영역 및 제 2영역과 같은 하위층 (sub- l ayer )를 포함하는 경우도 포함한다. 상기 단일층 고분자 필름은 상이한 조성 또는 구조를 갖는 복수의 필름이 적층되어 형성되는 다층 적층체의 필름과구분된다. 또한， 상술한 바와 같이， 상기 제 1영역 및 제 2영역 각각이 저굴절층 내에 존재한다는 점이 가시적으로 확인될 수 있다. 예를 들어 투과 전자현미경 [Transmi ssion Electron Mi croscope] 또는 주사전자현미경 [Scanning Electron Mi croscope] 등을 이용하여 제 1영역 및 제 2영역 각각이 저굴절층 내에 존재한다는 점을 가시적으로 확인할 수 있다.

상기 저굴절층에서 제 1영역 및 제 2영역 각각은 해당 영역 안에서 공통된 광학 특성을 공유할 수 있으며， 이에 따라 하나의 영역으로 정의될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제 1영역 및 제 2영역 각각은 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)하였을 때, 특정한 코쉬 파라미터 A, B 및 C를 갖게 되며， 이에 따라 제 1영역 및 제 2영역은 서로 구분될 수 있다. 또한 상기 타원편광법 (el l ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)를 통하여 상기 제 1영역 및 제 2영역의 두께도 도출될 수 있기 때문에, 상기 저굴절층 내에서 제 1영역 및 제 2영역을 일정의 층 ( layer)로도 정의할 수 있다.

한편， 상기 타원편광법 (el 1 ipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model )로 최적화 (f i tt ing)하였을 때 도출되는 코쉬 파라미터 A, B 및 C는 하나의 영역 내에서의 평균값일 수 있다. 이에 따라， 상기 제 1영역 및 제 2영역 사이에 계면이 존재하는 경우, 상기 제 1영역 및 제 2영역이 갖는 코쉬 파라미터 A, B 및 C가 중첩되는 영역이 존재할 수 있다. 다만， 이러한 경우에도， 상기 제 1영역 및 제 2영역 각각이 갖는 코쉬 파라미터 A, B 및 C의 평균값을 만족하는 영역의 따라서, 상기 제 1영역 및 제 2영역의 두께 및 위치가특정될 수 있다.

한편, 상기 저굴절층에서 바인더 수지 및 고굴절 무기 나노 입자를 포함하는 제 1영역과 바인더 수지 및 저굴절 무기 나노 입자를 포함한 제 2영역을 형성하는 방법이 크게 제한되는 것은 아니다. 예를 들어， 고굴절 0 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

무기 나노 입자와 저굴절 무기 나노 입자를 포함한 코팅 용액에서 건조 온도나 건조 방법 또는 코팅 방법 등을 조절함으로써 달성 가능하며， 구체적으로 열풍 건조 방법 등을사용할수 있다.

한편, 상기 제 1영역은 2011111 내지 300ä , 또는 50 내지 270ä , 또는 60 내지 250ä의 두께를 가질 수 있다. 또한, 상기 제 2영역은 70ä 내지

400· , 또는 80 내지 300:1111, 또는 90 내지 200에1의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1영역 및 제 2영역의 두께는 타원편광법（61 1 30111 ）으로 측정한 편극의 타원율을 하기 일반식 1의 코쉬 모델 0 11（± 1110（161）로 최적화 （아 ）를 통해서도 확인할수 있다.

한편， 상기 제 2영역 대비 제 1영역의 두께 비율이 0.25내지 4， 또는

0.3 내지 3， 또는 0.4 내지 2.5일 수 있다. 상기 제 1영역 대비 제 2영역의 두께 비율이 0.25내지 4임에 따라서, 각 계면에서 반사되는 빛의 상쇄 간섭이 적절하게 일어날수 있다.

한편， 상술한 구현예（들）의 반사 방지 필름에서, 상기 저굴절층에 포함되는 제 1영역과 제 2영역은 상이한 범위의 굴절율을 가질 수 있다.

보다 구체적으로， 상기 저굴절층에 포함되는 제 1영역은 550 1.55 내지 2.50 , 또는 1.55 내지 2.30 , 또는 1.55 내지 2. 10 , 또는 1.55 내지 2.00 의 굴절율을 가질 수 있다.

또한， 상기 저굴절층에 포함되는 제 2영역은 550 때에서 1.0 내지 1.45 , 또는 1. 1 내지 1.45 , 또는 1.2 내지 1.45 의 굴절율을 가질 수 있다. 상술한 굴절율의 측정은통상적으로 알려진 방법을사용할 수 있으며， 예를 들어 상기 저굴절층에 포함되는 제 1영역과 제 2영역 각각에 대하여 380 ^ 내지 1 , 000 파장에서 측정된 타원 편광과 모델을 이용하여

5501ä에서의 굴절율을 계산하여 결정할수 있다.

상기 저굴절층에 포함되는 제 1영역과 제 2영역 각각이 상술한 굴절율을 가짐에 따라서， 각 계면에서 반사되는 빛의 상쇄간섭이 효율적으로 일어나 낮은 반사율을 구현할수 있다. 한편, 상기 저굴절층에 포함되는 바인더 수지는 광중합성 화합물의 （공）중합체 및 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 간의 가교 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

（공）중합체를 포함할수 있다.

구체적으로, 상기 광중합성 화합물은 （메트）아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로， 상기 광중합성 화합물은 （메트）아크릴레이트 또는 비닐기를 1이상， 또는 2이상, 또는 3이상 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다.

상기 （메트）아크릴레이트를 포함한 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는， 펜타에리스리톨 트리（메트）아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라（메트）아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타（메트）아크릴레이트， 디펜타에리스리톨 핵사（메트）아크릴레이트， 트리펜타에리스리톨 헵타（메트）아크릴레이트， 트릴렌 디이소시아네이트， 자일렌 디이소시아네이트， 핵사메틸렌 디이소시아네이트， 트리메틸올프로판 트리（메트）아크릴레이트， 트리메틸올프로판 폴리에톡시 트리（메트）아크릴레이트， 트리메틸롤프로판트리메타크릴레이트， 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트， 부탄디올 디메타크릴레이트 , 핵사에틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물이나， 또는 우레탄 변성 아크릴레이트 올리고머， 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머, 에테르아크릴레이트 올리고머， 덴드리틱 아크릴레이트 올리고머， 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 이때 상기 올리고머의 분자량은 1 , 000 내지 10 , 000인 것이 바람직하다.

상기 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 디비닐벤젠 , 스티렌 또는 파라메틸스티렌을 들 수 있다.

한편， 상기 광중합성 화합물은 상술한 단량체 또는 올리고머 이외로 불소계 （메트）아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머를 더 포함할 수 있다. 상기 불소계 （메트）아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머를 더 포함하는 경우， 상기 （메트）아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머에 대한 상기 불소계 （메트）아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머의 중량비는 0. 1%내지 10%일 수 있다.

한편， 상기 저굴절층에는 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물로부터 유래한부분이 포함될 수 있다. 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에는 1이상의 광반응성 작용기가 포함 또는 치환될 수 있으며， 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여， 예를 들어 가시 광선 또는 자외선의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 작용기를 의미한다. 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 것으로 알려진 다양한 작용기를 포함할 수 있으며， 이의 구체적인 예로는 （메트）아크랄레이트기, 에폭사이드기， 비닐기（ 1 1） 또는싸이올기 01^01）를 들 수 있다.

상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 각각은 2 , 000 내지 200 , 000 , 바람직하게는 5 , 000 내지 100 , 000의 중량평균분자량 ½ᄄ법에 의해 측정한폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량）을 가질 수 있다.

상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 중량평균분자량이 너무 작으면， 상기 광경화성 코팅 조성물에서 함불소 화합물들이 표면에 균일하고 효과적으로 배열하지 못하고 최종 제조되는 저굴절층의 내부에 위치하게 되는데， 이에 따라 상기 저굴절층의 표면이 갖는 방오성이 저하되고 상기 저굴절층의 가교 밀도가 낮아져서 전체적인 강도나 내크스래치성 등의 기계적 물성이 저하될 수 있다.

또한， 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 중량평균분자량이 너무 높으면 , 상기 광경화성 코팅 조성물에서 다른 성분들과의 상용성이 낮아질 수 있고， 이에 따라 최종 제조되는 저굴절층의 헤이즈가 높아지거나 광투과도가 낮아질 수 있으며， 상기 저굴절층의 강도 또한 저하될 수 있다.

구체적으로, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 0 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고， 적어도 하나의 탄소에 1이상의 불소가 치환된 지방족 화합물 또는 지방족 고리 화합물; ） 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고, 적어도 하나의 수소가 불소로 치환되고, 하나 이상의 탄소가 규소로 치환된 헤테로（11 60）） 지방족 화합물 또는 헤테로어야근대）지방족 고리 화합물; 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 실리콘에 1이상의 불소가 치환된 폴리디알킬실록산계 고분자（예를 들어， 폴리디메틸실록산계 고분자） ; IV） 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고 적어도 하나의 수소가 불소로 치환된 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

폴리에테르 화합물， 또는 상기 I ) 내지 I V) 중 2이상의 혼합물 또는 이들의 공중합체를 들 수 있다.

상기 광경화성 코팅 조성물은 상기 광중합성 화합물 100중량부에 대하여 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 20 내지 300중량부를 포함할수 있다.

상기 광중합성 화합물 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물이 과량으로 첨가되는 경우 상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물의 코팅성이 저하되거나 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 내구성이나 내스크래치성을 갖지 못할 수 있다. 또한， 상기 광중합성 화합물 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 양이 너무 작으면 , 상기 광경화성 코팅 조성물로부터 얻어진 저굴절층이 충분한 방오성이나내스크래치성 등의 기계적 물성을 갖지 못할수 있다. 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 규소 또는 규소 화합물을 더 포함할 수 있다. 즉， 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 선택적으로 내부에 규소 또는 규소 화합물을 함유할 수 있고, 구체적으로 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 중 규소의 함량은 0. 1 중량%내지 20중량%일 수 있다.

상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에 포함되는 규소는 상기 구현예의 광경화성 코팅 조성물에 포함되는 다른 성분과의 상용성을 높일 수 있으며 이에 따라 최종 제조되는 굴절층에 헤이즈 0^2(3)가 발생하는 것을 방지하여 투명도를 높이는 역할을 할 수 있다. 한편, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 중 규소의 함량이 너무 커지면, 상기 광경화성 코팅 조성물에 포함된 다른 성분과 상기 함불소 화합물 간의 상용성이 오히려 저하될 수 있으며， 이에 따라 최종 제조되는 저굴절층이나 반사 방지 필름이 충분한 투광도나 반사 방지 성능을 갖지 못하여 표면의 방오성 또한 저하될 수 있다. 한편， 상기 하드 코팅층으로는 통상적으로 알려진 하드 코팅층을 큰 제한 없이 사용할수 있다.

상기 하드 코팅층의 일 예로서， 광경화성 수지를 포함하는 바인더 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

수지 및 상기 바인더 수지에 분산된 유기 또는 무기 미립자;를 포함하는 하드 코팅층을 들 수 있다.

상기 하드코팅층에 포함되는 광경화형 수지는 자외선 등의 광이 조사되면 중합 반응을 일으킬 수 있는 광경화형 화합물의 중합체로서， 당업계에서 통상적인 것일 수 있다. 구체적으로， 상기 광경화성 수지는 우레탄 아크릴레이트 올리고머， 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머， 폴리에스터 아크릴레이트， 및 폴리에테르 아크릴레이트로 이루어진 반응성 아크릴레이트 올리고머 군 ; 및 디펜타에리스리톨 핵사아크릴레이트， 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트， 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트， 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 , 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트， 트리메틸프로판 에톡시 트리아크릴레이트， 1 , 6 -핵산디올디아크릴레이트， 프로폭시레이티드 글리세로 트리아크릴레이트， 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트， 및 에틸렌글리콜 디아크릴레이트로 이루어진 다관능성 아크릴레이트 단량체 군에서 선택되는 1 종 이상을 포함할 수 있다.

상기 유기 또는 무기 미립자는 입경의 구체적으로 한정되는 것은 아니나, 예들 들어 유기 미립자는 1 내지 10 의 입경을 가질 수 있으며, 상기 무기 입자는 1 11111 내지 500 1¾1 , 또는 1ä 내지 300ä의 입경을 가질 수 있다. 상기 유기 또는 무기 미립자는 입경은 부피 평균 입경으로 정의될 수 있다.

또한， 상기 하드 코팅층에 포함되는 유기 또는 무기 미립자의 구체적인 예가 한정되는 것은 아니나, 예를 들어 상기 유기 또는 무기 미립자는 아크릴계 수지, 스티렌계 수지， 에폭사이드 수지 및 나일론 수지로 이루어진 유기 미립자이거나 산화규소, 이산화티탄, 산화인둠， 산화주석， 산화지르코늄 및 산화아연으로 이루어진 무기 미립자일 수 있다. 상기 하드 코팅층의 바인더 수지는 중량평균분자량 10 , 000 이상의 고분자량 （공）중합체를 더 포함할 수 있다. 상기 고분자량 （공）중합체는 셀룰로스계 폴리머, 아크릴계 폴리머, 스티렌계 폴리머， 에폭사이드계 폴리머, 나일론계 폴리머， 우레탄계 폴리머, 및 폴리올레핀계 폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상일 수 있다. 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

상기 하드 코팅층의 또 다른 일 예로서 , 광경화성 수지의 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅층을 들 수 있다.

상기 하드코팅층에 포함되는 광경화형 수지는 자외선 등의 광이 조사되면 중합 반응을 일으킬 수 있는 광경화형 화합물의 중합체로서， 당업계에서 통상적인 것일 수 있다. 다만, 바람직하게는， 상기 광경화형 화합물은 다관능성 （메트）아크릴레이트계 단량체 또는 올리고머일 수 있고， 이때 （메트）아크릴레이트계 관능기의 수는 2 내지 10， 바람직하게는 2 내지 8， 보다 바람직하게는 2 내지 7인 것이， 하드코팅층의 물성 확보 측면에서 유리하다. 보다 바람직하게는, 상기 광경화형 화합물은 펜타에리스리톨 트리（메트）아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라（메트）아크릴레이트， 디펜타에리스리톨 펜타（메트）아크릴레이트， 디펜타에리스리톨 핵사（메트）아크릴레이트， 디펜타에리스리톨 헵타（메트）아크릴레이트， 트리펜타에리스리톨 헵타（메트）아크릴레이트， 트릴렌 디아소시아네이트, 자일렌 디이소시아네이트， 핵사메틸렌 디이소시아네이트 , 트리메틸올프로판 트리（메트）아크릴레이트， 및 트리메틸올프로판 폴리에톡시 트리（메트）아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다. 상기 대전 방지제는 4급 암모늄염 화합물; 피리디늄염; 1 내지 3개의 아미노기를 갖는 양이온성 화합물; 설폰산 염기， 황산 에스테르 염기， 인산 에스테르 염기, 포스폰산 염기 등의 음이온성 화합물; 아미노산계 또는 아미노 황산 에스테르계 화합물 등의 양성 화합물; 이미노 알코올계 화합물， 글리세린계 화합물, 폴리에틸렌 글리콜계 화합물 등의 비이온성 화합물; 주석 또는 티타늄 등을 포함한 금속 알콕사이드 화합물 등의 유기 금속 화합물; 상기 유기 금속 화합물의 아세틸아세토네이트 염 등의 금속 킬레이트 화합물; 이러한 화합물들의 2종 이상의 반응물 또는 고분자화물; 이러한 화합물들의 2종 이상의 혼합물일 수 있다. 여기서， 상기 4급 암모늄염 화합물은 분자 내에 1개 이상의 4급 암모늄염기를 가지는 화합물일 수 있으며， 저분자형 또는 고분자형을 제한 없이 사용할수 있다. 또한, 상기 대전 방지제로는 도전성 고분자와 금속 산화물 미립자도 사용할 수 있다. 상기 도전성 고분자로는 방향족 공액계 폴리（파라페닐텐） , 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

헤테로고리식 공액계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 지방족 공액계의 폴리아세틸렌, 헤테로 원자를 함유한 공액예의 폴리아닐린， 혼합 형태 공액계의 폴리（페닐렌 비닐텐）, 분자중에 복수의 공액 사슬을 갖는 공액계인 복쇄형 공액계 화합물， 공액 고분자 사슬을 포화 고분자에 그래프트 또는 블록 공중합시킨 도전성 복합체 등이 있다. 또한, 상기 금속 산화물 미립자로는 산화 아연 , 산화 안티몬， 산화 주석 , 산화 세륨 , 인듐 주석 산화물 , 산화 인둠 , 산화 알루니뮴 , 안티몬 도핑된 산화 주석， 알루미늄 도핑된 산화 아연 등을 들 수 있다.

상기 광경화성 수지의 바인더 수지 ; 및 상기 바인더 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅층은 알콕시 실란계 올리고머 및 금속 알콕사이드계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 포함할수 있다.

상기 알콕시 실란계 화합물은 당업계에서 통상적인 것일 수 있으나， 바람직하게는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란， 테트라이소프로폭시실란， 메틸트리메톡시실란， 메틸트리에톡시실란, 메타크릴록시프로필트리메톡시실란 , 글리시독시프로필 트리메톡시실란， 및 글리시독시프로필 트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다.

또한， 상기 금속 알콕사이드계 올리고머는 금속 알콕사이드계 화합물 및 물을 포함하는 조성물의 졸-겔 반응을 통해 제조할 수 있다. 상기 졸-겔 반응은 전술한 알콕시 실란계 올리고머의 제조 방법에 준하는 방법으로 수행할수 있다.

다만, 상기 금속 알콕사이드계 화합물은 물과 급격하게 반응할 수 있으므로， 상기 금속 알콕사이드계 화합물을 유기용매에 희석한 후 물을 천천히 드로핑하는 방법으로 상기 졸-겔 반응을 수행할 수 있다. 이때， 반응 효율 등을 감안하여, 물에 대한 금속 알콕사이드 화합물의 몰비（금속이온 기준）는 3 내지 170인 범위 내에서 조절하는 것이 바람직하다.

여기서， 상기 금속 알콕사이드계 화합물은 티타늄 테트라ᅳ 이소프로폭사이드， 지르코늄 이소프로폭사이드， 및 알루미늄 이소프로폭사이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다.

상기 하드 코팅층은 0.1쎈］내지 100/해의 두께를 가질 수 있다.

상술한 바와 같이， 상기 하드 코팅층은 반사 방지 필름에 사용할 수 있는 것으로 알려진 재질이면 큰 제한 없이 사용할 수 있다. 구체적으로, 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 기재 상에 도포하고 광경화하는 단계를 통하여 하드 코팅층을 형성할 수 있다. 상기 하드 코팅층 형성에 사용되는 성분에 관해서는 상기 일 구현예의 반사 방지 필름에 관하여 상술한 바와 같다.

상기 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 광경화 시키는 단계에서는 200~400nm파장의 자외선 또는 가시 광선을 조사할 수 있고， 조사시 노광량은 100 내지 4,000 rnJ/cin ² 이 바람직하다. 노광 시간도 특별히 한정되는 것이 아니고, 사용 되는 노광 장치， 조사 광선의 파장 또는 노광량에 따라 적절히 변화시킬 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층 형성용 고분자 수지 조성물을 광경화 시키는 단계에서는 질소 대기 조건을 적용하기 위하여 질소퍼징 등을 할 수 있다. 상술한 구현예（들）의 반사 방지 필름은 상기 하드 코팅층의 다른 일면에 결합된 광투과성 기재를 포함할 수 있다. 상기 광투과성 기재의 구체적인 종류나 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 저굴절층 또는 반사 방지 필름의 제조에 사용되는 것으로 알려진 기재를 큰 제한 없이 사용할 수 있다.

보다 구체적으로， 상기 광투과성 기재는 광 투과도가 90% 이상이고, 헤이즈 1% 이하인 투명 필름일 수 있다.

상기 광투과성 기재는 환상 올레핀계 고분자 （cycloolefin polymer） 필름, 폴리（메트）아크릴레이트계 필름, 폴리카보네이트 필름， 트리아세틸 셀룰로오스가） 필름， 폴리노보넨 （polynorbornene） 필름 및 폴리에스테르 필름으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을포함할수 있다.

상기 광투과성 기재의 두께는 생산성 등을 고려하여 10 내지 300쌔!일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

보다구체적으로， 상기 반사 방지 필름은 파장 40011111 내지 800ä에서 측정되는 두께 방향의 이 3 , 00011111 이상， 또는 5 , 000ä 이상， 또는 5 , 000ä 내지 20 , 000ä인 광투과성 기재를 더 포함할 수 있다. 이러한 광투과성 기재의 구체적인 예로는 일축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 또는 이축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 들 수 있다.

상기 반사 방지 필름이 상기 파장 400ä 내지 80011111에서 측정되는 두께 방향의 리타데이션（ 11）이 3 , 000ä 이상， 5 , 000· 이상, 또는 5 , 00011111 내지 20 , 000ä인 광투과성 기재를 포함하는 경우, 3 , 000ä 이하의 리타데이션을 사용할 경우에 비하여 가시광선의 간섭에 의한 레인보우 현상이 완화될 수 있으며 투습율이 작아 디스플레이 장치에서 빛샘 현상을 완화할수 있다.

두께 방향의 리타데이션 0¾ 은 통상적으로 알려진 측정 방법 및 측정 장치를 통하여 확인할 수 있다. 예를 들어, 두께 방향의 리타데이션（묘 ）의 측정 장치로는 에 묘比으사제의 상품명 「엑소스캔（쇼 크!!） 등을 들 수 있다 .

예를 들어， 두께 방향의 리타데이션（ 의 측정 조건으로는, 상기 광투과성 기재 필름에 대하여， 굴절률（589에 ₁ ）값을 상기 측정 장치에 입력한 후, 온도: 25 ， 습도: 40%의 조건 하, 파장 590·의 광을 사용하여， 광투과성 기재 필름의 두께 방향의 리타데이션을 측정하고, 구해진 두께 방향의 리타데이션 측정값（측정 장치의 자동 측정（자동 계산）에 의한 측정값）에 기초하여, 필름의 두께 10;패당 리타데이션 값으로 환산함으로써 구할 수 있다. 또한, 측정 시료의 광투과성 기재의 사이즈는， 측정기의 스테이지의 측광부（직경: 약 1 _01! ）보다도 크면 되기 때문에, 특별히 제한되지 않지만, 세로 76ä, 가로 52ä, 두께 13_의 크기로 할수 있다. 또한， 두께 방향의 리타데이션（¾11）의 측정에 이용하는 「상기 광투과성 기재의 굴절률（589ä）」 의 값은， 리타데이션의 측정 대상이 되는 필름을 형성하는 광투과성 기재와 동일한 종류의 수지 필름을 포함하는 미연신 필름을 형성한 후, 이러한 미연신 필름을 측정 시료로서 사용하고（또한， 측정 대상이 되는 필름이 미연신 필름인 경우에는, 그 필름을 그대로 측정 시료로서 사용할 수 있음）， 측정 장치로서 굴절률 측정 장치 (가부시끼가이샤 아타고제의 상품명 「NAR-1T SOLID」 )를 사용하며, 589nm의 광원을 사용하고, 23 ^° C의 온도 조건에서， 측정 시료의 면 내 방향 (두께 방향과는 수직인 방향)의 589nm의 광에 대한 굴절률을 측정하여 구할수 있다. 발명의 다른 구현예에 따르면, 상술한 일 구현예의 반사 방지 필름을 포함하는 편광판이 제공될 수 있다.

상기 편광판은 편광막과 상기 편광막의 적어도 일면에 형성된 반사 방지 필름을 포함할 수 있다.

상기 편광막의 재료 및 제조방법은 특별히 한정하지 않으며, 당 기술분야에 알려져 있는 통상적인 재료 및 제조방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 편광막은 폴리비닐알코올계 편광막일 수 있다.

상기 편광막과 반사방지 필름사이에는 보호 필름이 구비될 수 있다. 상기 보호 필름의 예가 한정되는 것은 아니며， 예를 들어 C0P(cycloolef in polymer )계 필름, 아크릴계 필름,

TAC tr i acetyl cel lulose)계 필름， COC cycloolef in copolymer)계 필름， PNB(polynorbornene)계 필름 및 PET( polyethylene terephthal ate)계 필름 중 어느 하나 이상일 수 있다.

상기 보호필름은 상기 반사방지 필름의 제조시 단일 코팅층을 형성하기 위한 기재가그대로 사용될 수도 있다.

상기 편광막과상기 반사방지필름은 수계 접착제 또는 비수계 접착제 등의 접착제에 의하여 합지될 수 있다. 발명의 또 다른 구현예에 따르면， 상술한 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치가제공될 수 있다.

상기 디스플레이 장치의 구체적인 예가 한정되는 것은 아니며， 예를 들어 액정표시장치 (Liquid Crystal Di spl ay) , 플라즈마 디스플레이 장치， 유기발광 다이오드 장치 (Organi c Light Emi tt ing Di odes) 등의 장치일 수 있다.

하나의 일 예로， 상기 디스플레이 장치는 서로 대향하는 1쌍의 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

편광판; 상기 1쌍의 편광판 사이에 순차적으로 적층된 박막트랜지스터， 컬러필터 및 액정셀; 및 백라이트 유닛을 포함하는 액정디스플레이 장치일 수 있다.

상기 디스플레이 장치에서 상기 반사 방지 필름은 디스플레이 패널의 관측자측또는 백라이트측의 최외각표면에 구비될 수 있다.

상기 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치는, 1쌍의 편광판 중에서 상대적으로 백라이트 유닛과 거리가 먼 편광판의 일면에 반사 방지 필름이 위치할수 있다.

또한, 상기 디스플레이 장치는 디스플레이 패널， 상기 패널의 적어도 일면에 구비된 편광막 및 상기 편광막의 패널과 접하는 반대측 면에 구비된 반사방지 필름을 포함할수 있다.

【발명의 효과】

본 발명에 따르면, 높은 투광율, 높은 내스크래치성 및 방오성을 가지면서도 낮은 반사율을 구현하여 디스플레이 장치의 화면의 선명도를 높일 수 있는 반사 방지 필름과， 상기 반사 방지 필름을 포함하는 편광판과， 상기 반사 방지 필름을 포함하며 높은 화면의 선명도를 제공하는 디스플레이 장치가 제공될 수 있다.

【발명을실시하기 위한구체적인 내용】

발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단， 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.

<제조예 >

제조예 1 : 하드코팅층（抑 1）의 제조

湖比 사 염타입의 대전 방지 하드 코팅액（고형분 50중량%, 제품명: 니［）-1000）을 트리아세틸 셀루로스 071 필름에 #10 31·로 코팅하고 90 에서 1분 건조한 이후， 150 1 / 의 자외선을 조사하여 약 5 의 두께를 갖는 하드코팅 필름을 제조하였다. 제조예 2: 하드코팅층（抑 2）의 제조 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 30g, 고분자량 공중합체 (BEAMSET 371 , Arakawa사， Epoxy Acrylate, 분자량 40 , 000) 2.5g, 메틸에틸케톤 20g 및 레벨링제 (Tego wet 270) 0.5g을 균일하게 혼합한 이후에 굴절률이 1.525인 미립자로사 아크릴-스티렌 공중합체 (부피평균입경 : 2pm, 제조사: Sekisui Plastic) 2g을 첨가하여 하드코팅 조성물을제조하였다.

이와 같이 얻어진 하드 코팅 조성물을 PET 필름 (두께 80쌔!， 리타데이션 lOOOOnm)에 #10 mayer bar로 코팅하고 90 에서 1분간 건조하였다. 상기 건조물에 150 mJ/cm ² 의 자외선을 조사하여 5_의 두께를 갖는하드코팅층을제조하였다.

＜실시예 1내지 6: 반사방지 필름의 제조＞

(1)저굴절층제조용광경화성 코팅 조성물의 제조

실시^ 11

펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 100중량부에 대하여， 중공형 실리카 나노 입자 (직경: 약 50 내지 60 nm, JSC catalyst and chemicals) 190중량부, 솔리드형 Zr0 ₂ 입자 (직경: 약 16 nm) 572중량부, 함불소화합물 (RS-923, DIC사) 73중량부, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 16.2중량부를， 메틸이소부틸케톤 에 고형분농도 3중량%가되도록희석하였다. 실시예 2

트리메틸올프로판트리메트아크릴레이트 (TMPTA) 100중량부에 대하여， 중공형 실리카 나노 입자 (직경: 약 50 내지 60 nm, JSC catalyst and chemicals) 97.5중량부， 솔리드형 Zr0 ₂ 입자 (직경: 약 16 ran) 244중량부， 함불소 화합물 (RS-923, DIC사) 37.5중량부， 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 9.3중량부를， 메틸이소부틸케톤(MIBK)에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록희석하였다. 실시^ 13

디펜타에리스리톨 핵사아크릴레이트 (卵 ) 100중량부에 대하여， 중공형 실리카 나노 입자 (직경: 약 50 내지 60 nm, JSC catalyst and (土 133중량부, 솔리드형 0 ₂ 입자 (직경 : 약 18 ) 433중량부， 함불소 화합물 (1¾-923， 1)1(：사) 51.3중량부, 개시제 ( 1 30! 127, (：比3사) 11.3중량부를， 메틸이소부틸케톤 (¾11 )에 고형분 농도 3.1 중량%가 되도록 희석하였다. 실시예 4

펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 100중량부에 대하여 , 중공형 실리카 나노 입자 (직경: 약 50 내지 60 nm , JSC catalyst and chemi cal s) 190중량부， 솔리드형 Ti0 ₂ 입자 (직경: 약 18 nm) 590중량부， 함불소 화합물 (RS-923 , DIC사) 33.5중량부， 개시제 ( Irgacure 127 , Ciba사) 10중량부를， 메틸이소부틸케톤 (MIBK)에 고형분 농도 3.3 중량%가 되도록 희석하였다. 실시예 5

디펜타에리스리톨 핵사아크릴레이트 (DPHA) 1◦◦중량부에 대하여， 중공형 실리카 나노 입자 (직경: 약 50 내지 60 nm , JSC catalyst and chemi cal s) 185중량부， 솔리드형 Ti0 ₂ 입자 (직경: 약 18 nm) 244중량부, 함불소 화합물 (RS-923, DIC사) 50중량부， 개시제 ( Irgacure 127， Ciba사) 9.3중량부를, 메틸이소부틸케톤 (MIBK)에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록 희석하였다. 실시예 6

디펜타에리스리톨 핵사아크릴레이트 (DPHA) 100중량부에 대하여， 중공형 실리카 나노 입자 (직경: 약 50 내지 60 nm , JSC catalyst and chemi cal s) 155중량부， 솔리드형 Ce¾ 입자 (직경: 약 11 nm) 220중량부， 함불소 화합물 (RS-923 , DIC사) 45.2중량부, 개시제 ( Irgacure 127 , Ciba사) 8.1중량부를, 메틸이소부틸케톤 (MIBK)에 고형분 농도 3.4 중량%가 되도록 희석하였다.

(2-1) 저굴절층 및 반사방지 필름의 제조

상기 제조예 1의 하드 코팅층 (HD1) 상에， 상기에서 얻어진 광경화성 코팅 조성물을 로 두께가 약 250ä가 되도록 코팅하고, 하기 표 1의 온도 및 시간으로 건조 및 경화하였다. 상기 경화시에는 질소 퍼징하에서 상기 건조된 코팅물에 252 / 의 자외선을 조사하였다 .

(2-2) 저굴절층및 반사방지 필름의 제조

상기 제조예 2의 하드 코팅층 (1 2) 상에, 상기에서 얻어진 광경화성 코팅 조성물을 #5 _[ 크!"로 두께가 약 26011111가 되도록 코팅하고， 하기 표 1의 온도 및 시간으로 건조 및 경화하였다. 상기 경화시에는 질소 퍼징하에서 상기 건조된 코팅물에 252 /( 의 자외선을 조사하였다.

【표 1]

＜비교예 : 반사방지 필름의 제조＞비교예 1

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 저굴절층 제조용 광경화성 코팅 조성물을 제조하고， 상온에서 2분간 건조한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다. 비교예 2

펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (PETA) 100중량부에 대하여， 중공형 실리카 나노 입자 (직경 : 약 50 내지 60nm , JSC catalyst and chemi cal s사 제품) 281 중량부, 솔리드형 Si0 ₂ 입자 (직경 : 약 12 ran) 63 중량부, 함불소 화합물 (RS-537 , DIC사) 150중량부， 개시제 ( Irgacure 127， Ciba사) 31중량부를, MIBK(methyl i sobutyl ketone)용매에 고형분 농도 3 중량%가 되도록 희석하였다. 2019/177271 1»（：1^1{2019/001695

비교예 3

상기 실시예 1에서 사용한 솔리드형 ¾0 ₂ 입자를 110때 크기의 솔리드형 ¾0 ₂ 입자로 대체한 점을 제외하고, 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 저굴절층 제조용 광경화성 코팅 조성물을 제조하고， 실시예 2와 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.

＜실험예 : 반사방지 필름의 물성 측정＞

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름에 대하여 다음과 같은 항목의 실험을 시행하였다.

1. 반사방지 필름의 반사율측정

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 뒷면을 암색 처리한 이후에 ¾1걔3? 3700（ 1¾ 0別）의 반사율 0 6 3 6） 모드를 이용하여 380ä 내지 78011111 파장 영역에서의 평균 반사율을 측정하였다.

2. 방오성 측정

실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 표면에 검은색 네임펜으로 5 «11 길이의 직선을 그리고, 무진천을 이용하여 문질렀을 때 지워지는 횟수를 확인하여 방오성을 측정하였다.

＜측정 기준＞

0： 지워지는 시점이 1◦회 이하

스: 지워지는 시점이 11회 내지 20회

X： 지워지는 시점이 20회 초과 3. 내스크래치성 측정

스틸울（#0000）에 하중을 걸고 27印111의 속도로 10화 왕복하며 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 표면을 문질렀다. 육안으로 관찰되는 1011이하의 스크래치 1개 이하가 관찰되는 최대 하중을 즉정하였다. 4. 타원편광법（ 1 ^3011161； ） 측정 상기 실시예 및 비교예 각각에서 얻어진 저굴절율층에 대하여 타원편광법 (ellipsometry)으로 편극의 타원율을 측정하였다.

구체적으로， 상기 실시예 및 비교예 각각에서 얻어진 저굴절율층에 대하여 J. A. Wool lam Co. M-2000 의 장치를 이용하여， 70 ^° 의 입사각을 적용하고 380nm 내지 1000 nm의 파장 범위에서 선편광을 측정하였다. 상기 측정된 선평광 측정 데이터 (Ellipsometry data( W ,ᅀ ) )를 Complete EASE software를 이용하여 상기 저굴절율층의 제 1 , 2층(Layer 1 , Layer 2)에 대하여 하기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 MSE가 3이하가 되도록 최적화 (fitting)하였다.

[일반식 1] 상기 일반식 1에서, ! (X)는 X파장에서의 굴절율(refract ive index)이고， X는 300 nm 내지 1800nm의 범위이고， A, B 및 C는 코쉬 파라미터이다.

5. 굴절율의 측정

상기 실시예들에서 얻어진 저굴절율층에 포함되는 제 1영역과 제 2영역 각각에 대하여 380 nm 내지 1 , 000 nm의 파장에서 측정된 타원 편광과 Cauchy모델을 이용하여 550nm에서의 굴절율을 측정하였다.

【표 2]

【표 3】

상기 표 2에서 확인되는 바와 같이, 상기 저굴절층에 포함된 제 2영역에 대하여 타원편광법 (ellipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 최적화 (fitting)하였을 때， 상기 A는 1.0 내지 1.40이고 B는 0 내지 0.10이고 C는 0 내지 0.01의 조건을 만족한다는 점이 확인되었고, 상기 저굴절층에 포함된 제 1영역에 대하여 타원편광법 (ellipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 최적화 (fitting)하였을 때， 상기 A는 1.50 내지 2.00이고 B는 0 내지 0.10이고 C는 0 내지 0.01의 조건을 만족한다는 점이 확인되었다.

또한， 상기 표 2에 나타난 바와 같이， 실시예의 반사 방지 필름은 가시 광선 영역에서 0.50% 이하의 낮은 반사율을 나타내면서 높은 내스크래치성 및 방오성을 동시에 구현할 수 있다는 점이 확인되었다. 또한， 상기 표 3에 나타난 바와 같이， 실시예의 저굴절층에 포함되는 제 1영역과 제 2영역은 상이한 범위의 굴절율을 나타내며, 구체적으로 상기 저굴절층의 제 1영역은 1.55 이상의 굴절율을 나타내고 상기 저굴절층의 제 2영역은 1.45이하의 굴절율을 나타낸다는 점이 확인되었다.

또한， 비교예 1 내지 3의 반사 방지 필름은 타원편광법 (ellipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 상기 일반식 1의 코쉬 모델 (Cauchy model)로 최적화 (fitting)하였을 때 실시예의 반사 방지 필름과 측정 결과 및 코쉬 모델 (Cauchy model)에 의한 최적화 (fitting) 결과에서 상이한 범위를 나타내며， 또한 상대적으로 높은 반사율과 나타내면서 낮은 내스크래치성 및 방오성을 갖는다는 점이 확인되었다.

특히 , 실시예들의 반사 방지 필름에서는 0.4% 이하의 평균반사율이 구현되는데 반하여， 비교예 1 및 3의 반사 방지 필름은 1.2% 또는 1.3%의 평균반사율을 나타내며， 비교예 2의 반사 방지 필름은 0.68%의 평균반사율을 나타내어 , 실시예들의 반사 방지 필름이 크게 낮아진 평균 반사율을 구현할 수 있다는 점이 확인되었다.