本発明の防汚性物品は、ガラス基板と、� ��記ガラス基板の基板面上に形成された光触� ��活性層と、前記光触媒活性層の上に積層さ� ��たオーバーコート層と、を備える防汚性物� ��であって、前記光触媒活性層の幾何学的膜� ��が5~500nmであって、前記オーバーコート層が 、(A)酸化タンタル、酸化スズ、窒化ケイ素、 酸窒化ケイ素およびケイ素とスズを含む酸化 物からなる群から選ばれる少なくとも1種、� �たは(B)ケイ素とジルコニウムを含む酸化物� �らなることを特徴とする防汚性物品である� �

 以下、これを本発明の第1の態様の防汚性物 品という。
 本発明の防汚性物品に用いられるガラス基� ��は、無色透明の材料に限られず、例えば、� ��過率が本発明の目的を損なわない範囲で着� ��している材料を用いることができる。特に� ��ラス板が好ましい。

 ガラス板は特に制限されず、例えば、透� ��または着色のフロートガラス(フロート法で 製造されたガラス)、着色させた熱線吸収ガ� �スが挙げられる。具体的には、ソーダライ� �ガラスに鉄イオン等の着色成分を含有させ� �熱線吸収ガラスが好適に用いられる。また� �アルカリガラスを用いることもできる。こ� �らのガラス板は強化処理が施されていても� �い。

 本発明の防汚性物品に用いられる光触媒� ��性層は、光触媒活性を有する層であり、ガ� ��ス基板の片側表面上に積層されている層で� ��る。光触媒活性層は、被膜に付着した有機� ��を分解して汚れをなくするまたは少なくす� ��性能(防汚性)や、超親水性を有する。

 光触媒活性層を構成する材料は特に制限さ� ��ず、例えば、金属酸化物半導体が挙げられ� ��。具体的には例えば、酸化チタン、酸化タ� ��グステンのような金属酸化物;これらの金属 酸化物に窒素がドープされたもの(例えば、� �素がドープされた酸化チタン)、これらの金� ��酸化物に硫黄ドープされたもの(例えば、硫 黄がドープされた酸化チタン)等が挙げられ� �。光触媒活性層は、防汚性により優れると� �う観点から、酸化チタン、窒素がドープさ� �た酸化チタン(以下、TiO _x :Nとも記載する)等が好ましい。

 従来の光触媒活性層は紫外線によって光� ��媒活性を有する化合物中の電子を励起させ� ��ことによってその効果を発揮するものであ� ��が、近年可視光に応答する性能(つまり、紫 外線より低いエネルギーで電子を励起させう る性能)を有する光触媒が研究されている。

 また、紫外線による応答性を有する光触� ��活性層を備える防汚性物品は、合わせガラ� ��にも応用することができる。合わせガラス� ��応用する場合、例えば、防汚性物品と、樹� ��製の中間膜と、別のガラス基板とを積層し� ��合わせガラスとするが、室内または車内で� ��紫外線量を減少させることを目的として、� ��記中間膜に紫外線吸収剤を添加したポリビ� ��ルブチラール等の樹脂を使用し、中間膜に� ��って紫外線を吸収させる場合がある。しか� ��、この場合室内または車内における紫外線� ��が低下するため光触媒活性層の光触媒活性� ��十分に発揮されないという問題が生じる。

 これに対して、可視光は紫外線に比べてそ� ��量が多く、合わせガラスの中間膜を透過す� ��ことができる。そこで、可視光に対して応� ��することができ、室内または車内において� ��防汚性を発揮することができるという観点� ��ら、窒素がドープされた酸化チタン(TiO ₂ :N)が好ましい。なお、これらは紫外線に対し ても応答性を有する。
 光触媒活性層を構成する材料は、それぞれ� ��独で、または2種以上を組み合わせて使用す ることができる。

 本発明の第1の態様の防汚性物品において 、光触媒活性層の幾何学的膜厚が5nm未満では 防汚性が不十分となるおそれがあり、500nm超� ��は防汚性の向上への寄与が小さくなる一方� ��生産コストが嵩むおそれがある。光触媒活� ��層の幾何学的膜厚は好ましくは10~300nmであ� �、より好ましくは50~300nmである。

 本発明の第1の態様の防汚性物品は、オー バーコート層を備えることによって、有機物 等(例えば、空気中に浮遊している、ジオク� �ルフタレート(DOP)のような可塑剤)の汚れを� �の表面に吸着または付着させにくく(難吸着� ��)、汚れの蓄積を防止し、防汚性を維持でき る。

 オーバーコート層として、(A)酸化タンタ� ��、酸化スズ、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素お� ��びケイ素とスズを含む酸化物からなる群か� ��選ばれる少なくとも1種からなるオーバーコ ート層を用いると、上述の効果に加えて、超 親水性および防曇性を長時間に亘って維持す ることができる。該オーバーコート層の幾何 学的膜厚は、防汚性、難吸着性、有機物分解 性、超親水性および防曇性に優れるという観 点から0.5~70nmであり、防汚性、難吸着性、有� ��物分解性、超親水性および防曇性により優� ��るという観点から1~20nmであるのが好ましい� ��

 オーバーコート層として(B)ケイ素とジル� ��ニウムを含む酸化物(以下、ZrSiOともいう)か らなるオーバーコート層を用いると、防汚性 、難吸着性および有機物分解性を維持しつつ 、さらに可視光線に対する高い反射防止性を 実現することができる。ZrSiOからなるオーバ� ��コート層の幾何学的膜厚は、防汚性、難吸� ��性および有機物分解性に優れるという観点� ��ら0.5~150nmであり、防汚性、難吸着性および� ��機物分解性に加えて、可視光線に対する反� ��防止性に優れるという観点から50~150nmが好� �しく、可視光線に対する反射防止性により� �れるという観点から70~100nmであるのがより好 ましい。ZrSiOからなるオーバーコート層の幾� ��学的膜厚は、ケイ素原子とジルコニウム原� ��との割合により、この範囲において適宜決� ��ることができる。

 また、ZrSiOからなるオーバーコート層の� �何学的膜厚は、防汚性、難吸着性および有� �物分解性に加えて、超親水性および防曇性� �優れるという観点からは0.5~70nmがより好まし く、防汚性、難吸着性、有機物分解性、超親 水性および防曇性により優れるという観点か ら、1~20nmであるのがより好ましい。

 ZrSiOは、ケイ素原子とジルコニウム原子� �を含む酸化物であれば特に制限されない。Zr SiOにおけるケイ素原子およびジルコニウム原 子を合計した濃度は、親水性に優れるという 観点から、酸化物に含まれるケイ素原子およ び金属原子(金属原子はジルコニウム原子を� �む。)の合計量Aに対して80~100原子%であるの� �好ましく、90~100原子%であるのがより好まし� ��。

 ZrSiOに含まれるケイ素原子の濃度は、光反� �防止性により優れ、親水性に優れるという� �点から、ZrSiOに含まれるケイ素原子およびジ ルコニウム原子の合計量Bに対して60~95原子%� �あるのが好ましく、65~90原子%であるのがよ� �好ましい。
 ZrSiOに含まれるジルコニウム原子の量は、� �視光線に対する反射防止性により優れ、親� �性に優れるという観点から、合計量B中の5~40 原子%であるのが好ましく、10~35原子%である� �がより好ましい。

 オーバーコート層は、有機物等の汚れを� ��着または付着させにくく、汚れの蓄積を防� ��し、超親水性を長時間維持することができ� ��という観点から、ゼータ電位が-55~-10mVであ� ��材料からなる層を用いるのが好ましい。オ� ��バーコート層のゼータ電位は-55~-25mVである� ��がより好ましい。ゼータ電位がこのような� ��囲である場合、オーバーコート層を構成す� ��材料の分子内の極性の強さが適切なものと� ��り、有機物等の汚れを吸着や付着させにく� ��と考えられる。

 このようなゼータ電位を有する層を形成� ��得る材料としては、酸化タンタル、酸化ス� ��、窒化ケイ素等が挙げられる。オーバーコ� ��ト層を形成する材料は、それぞれ単独でま� ��は2種以上を組み合わせて使用することがで きる。

 オーバーコート層は、光触媒活性層の上� ��配置される。ガラス基板の光触媒活性層が� ��けられている側の面の最表層にオーバーコ� ��ト層を配置するのが好ましい態様の1つとし て挙げられる。特に、(A)酸化タンタル、酸化 スズ、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素およびケイ 素とスズを含む酸化物からなる群から選ばれ る少なくとも1種からなるオーバーコート層� �用いる場合は、ガラス基板の光触媒活性層� �設けられている側の面の最表層にオーバー� �ート層を配置するのが、超親水性および防� �性を長時間維持するために好ましい。

 次に本発明の第2の態様の防汚性物品につ いて説明する。本発明の第2の態様の防汚性� �品は、ガラス基板と、前記ガラス基板の片� �表面上に積層された光触媒活性層と、前記� �触媒活性層の上に積層されたZrSiOからなるオ ーバーコート層と、前記オーバーコート層の 上に積層されたトップコート層とを備える防 汚性物品であって、前記トップコート層が、 窒化ケイ素、二酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、 酸化タンタル、酸化スズ、およびケイ素とス ズを含む酸化物からなる群から選ばれる少な くとも1種からなる防汚性物品である。

 近年、有機物の汚れを分解すること等を目� ��として、チタニア(TiO ₂ )等の金属酸化物半導体の光触媒層を有する� �ラスが自動車用や建築用等のガラスとして� �案されているが、TiO ₂ のような材料はガラスに比して屈折率が高い ため可視光反射率が高くなり、その外観が損 なわれる課題があった。このため、光触媒活 性層の下層や上層に光触媒活性層より屈折率 が低い材料の層を積層して、光触媒活性層付 きガラスの可視光に対する反射率を低減させ ることが行われている(例えば、特開2005-165014 号公報)。
 光触媒活性層よりも屈折率の低い材料とし� ��は、フッ化マグネシウムや二酸化ケイ素等� ��知られているが、これらの材料を採用する� ��、光触媒活性を低下する場合があった。

 本発明者は、光触媒活性層と光反射防止� ��層とを有するガラス基板においては、光反� ��防止性と防汚性との両立について改善の余� ��があることから、本発明の第2の態様の防汚 性物品を発明するに至った。

 すなわち、本発明の第2の態様の防汚性物 品は、有機物等(例えば、空気中に浮遊して� �るジオクチルフタレート(DOP)のような可塑剤 )の汚れをその表面に吸着または付着させに� �く(難吸着性)し、汚れの蓄積を防止して、長 時間に渡り高い防汚性を有するとともに、超 親水性を長時間維持することができ、長時間 に渡り高い防曇性を有する。さらに、可視光 に対して優れた低反射性を有する。

 本発明の第2の態様にかかる防汚性物品の オーバーコート層に用いられるZrSiOは、ケイ� ��原子とジルコニウム原子とを含む酸化物で� ��れば特に制限されない。ZrSiOにおけるケイ� �原子およびジルコニウム原子を合計した濃� �は、親水性に優れるという観点から、ZrSiOに 含まれるケイ素原子および金属原子(金属原� �はジルコニウム原子を含む。)の合計量Aに対 して80~100原子%であるのが好ましく、90~100原� �%であるのがより好ましい。

 ZrSiOに含まれるケイ素原子の濃度は、光� �射防止性により優れ、親水性に優れるとい� �観点から、ZrSiOに含まれるケイ素原子および ジルコニウム原子の合計量Bに対して60~95原子 %であるのが好ましく、65~90原子%であるのが� �り好ましい。ZrSiOに含まれるジルコニウム原 子の量は、可視光線に対する反射防止性によ り優れ、親水性に優れるという観点から、合 計量B中の5~40原子%であるのが好ましく、10~35� ��子%であるのがより好ましい。

 ZrSiOからなるオーバーコート層の幾何学� �膜厚は、防汚性、難吸着性および有機物分� �性に優れるという観点から0.5~150nmが好まし� �、防汚性、難吸着性および有機物分解性に� �えて、可視光線に対する反射防止性に優れ� �という観点から50~150nmがより好ましく、可視 光線に対する反射防止性により優れるという 観点から70~100nmであるのがより好ましい。ZrSi Oからなるオーバーコート層の幾何学的膜厚� �、ケイ素原子とジルコニウム原子との割合� �より、この範囲において適宜決めることが� �きる。

 トップコート層の幾何学的膜厚は、防汚� ��、難吸着性、有機物分解性、超親水性およ� ��防曇性に優れるという観点から0.5~70nmであ� �、防汚性、難吸着性、有機物分解性、超親� �性および防曇性により優れるという観点か� �1~20nmであるのが好ましい。

 トップコート層は、有機物等の汚れを吸着� ��たは付着させにくく、汚れの蓄積を防止し� ��超親水性を長時間維持することができ、防� ��性に優れるという観点から、ゼータ電位が- 55~-10mVであるのが好ましく、-55~-25mVであるの� ��より好ましい。このような範囲である場合� ��オーバーコート層を構成する材料の分子内� ��極性の強さが適切なものとなり、有機物等� ��汚れを吸着や付着させにくいと考えられる� ��このようなゼータ電位を有する層を形成し� ��る材料としては、酸化タンタル、酸化スズ� ��窒化ケイ素が挙げられる。
 トップコート層を形成する材料は、それぞ� ��単独でまたは2種以上を組み合わせて使用す ることができる。
 トップコート層は、ガラス基板の光触媒活� ��層が設けられている側の面の最表層に配置� ��れるのが好ましい態様の1つとして挙げられ る。

 本発明の第2の態様の防汚性物品が備える 光触媒活性層および酸化物層の数は特に制限 されない。光触媒活性層を少なくとも1層と� �ZrSiOからなるオーバーコート層を少なくとも 1層と、トップコート層とを備えることがで� �る。さらに、例えば、光触媒活性層を2層以� ��とすることもできる。また、ZrSiOからなる� �ーバーコート層を2層以上とすることもでき� ��。光触媒活性層を2層以上とする場合、ガラ ス基板の上に、光触媒活性層とZrSiO層とが交� ��に、かつ合計の積層数が2以上である防汚性 物品とすることができる。

 また、ガラス基板を用いる場合、ガラス基� ��からアルカリ成分が溶出して光触媒活性層� ��損傷を与える場合がある。このようなアル� ��リ成分による損傷を抑えるために、ガラス� ��板と光触媒活性層との間にアルカリバリヤ� ��を設けることもできる。アルカリバリヤ層� ��、二酸化ケイ素からなる層が好ましい。
 本発明の防汚性物品はその製造方法につい� ��特に制限されない。

 第1の態様の防汚性物品の製造方法として は、ガラス基板の片側表面上に光触媒活性層 を形成する光触媒活性層形成工程と、光触媒 活性層の上にオーバーコート層を形成するオ ーバーコート層形成工程とを具備する方法(1) が挙げられる。

 第2の態様の防汚性物品の製造方法として は、ガラス基板の片側表面上に光触媒活性層 を形成する光触媒活性層形成工程と、光触媒 活性層の上にZrSiOからなるオーバーコート層� ��形成するオーバーコート層形成工程と、ZrSi Oからなるオーバーコート層の上にトップコ� �ト層を形成するトップコート層形成工程と� �具備する方法(2)が挙げられる。方法(2)にお� �て、光触媒活性層形成工程とZrSiOからなるオ ーバーコート層形成工程とを繰り返して行う ことができる。

 方法(1)について以下に説明する。
 光触媒活性層形成工程において、ガラス基� ��の片側表面上に光触媒活性層を形成して、� ��ラス基板の上に光触媒活性層を積層させる� ��
 ガラス基板の片側表面上に光触媒活性層を� ��成する方法としては、例えば、スパッタリ� ��グ法、CVD法、湿式法(スプレー法など)等が� �げられる。なかでも、大面積の基板に層を� �成する際に、膜厚の均一性に優れるという� �点から、スパッタリング法が好ましい。

 スパッタリング法としては、例えば、マ� ��ネトロンカソードを用いたDC(直流)スパッタ リング方式、AC(交流)スパッタリング方式、RF スパッタリング方式、パルス電源を用いたパ ルススパッタリング方式、2本のマグネトロ� �カソードを用いデュアルマグネトロンスパ� �タリング方式などが挙げられる。これらの� �式のいずれを用いてもよい。

 なお、本発明において、複数の金属原子� ��含む酸化物をスパッタリング法で成膜する� ��きは、複数の金属原子を含むターゲット(以 下、混合ターゲットと記載する)を使ってス� �ッタリング法を行ってもよく、成膜チャン� �ー内に複数のターゲットを設置して同時に� �パッタリングを行ってもよい。本発明にお� �ては、混合ターゲットを用いる場合、ター� �ットに含まれる金属原子の比率と得られる� �に含まれる金属原子の比率の組成とは一致� �る。

 光触媒活性層として酸化チタン層を製造� ��る場合は、ターゲットとしてTiOx(x<2)を用� ��、スパッタガスとして酸素原子を含むガス� ��含有するガス雰囲気中で反応性スパッタリ� ��グ法を行う方法が好適に挙げられる。光触� ��活性層として窒素がドープされた酸化チタ� ��層を製造する場合は、ターゲットとしてTiOx (x<2)を用い、スパッタガスとして窒素原子� ��含むガスを含有するガス雰囲気中で反応性� ��パッタリング法を行う方法が好適に挙げら� ��る。ここでxは、1.6<x<2である。

 本明細書において窒素原子を含むガスを含� ��するガスとは、窒素原子を含むガスを含有� ��るものであればよく、特に限定されない。� ��えば、窒素原子を含むガス、窒素原子を含� ��ガスと不活性ガスとの混合ガス等が挙げら� ��る。窒素原子を含むガスとしては、例えば� ��窒素ガス(N ₂ )、N ₂ O、NO、NO ₂ 、NH ₃ 等が挙げられる。これらは、単独でまたは2� �以上を混合して用いられる。

 本明細書において不活性ガスとは、例え� ��、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプト� ��、キセノン等の希ガスが挙げられる。中で� ��、経済性および放電のしやすさの点から、� ��ルゴンが好ましい。これらは、単独でまた� ��2種以上を混合して用いられる。

 本明細書において、酸素原子を含むガスを� ��有するガスとは、酸素原子を含むガスを含� ��するものであればよく、特に限定されない� ��例えば、酸素原子を含むガス、酸素原子を� ��むガスと不活性ガスとの混合ガス等が挙げ� ��れる。酸素原子を含むガスとしては、例え� ��、酸素ガス(O ₂ )、二酸化炭素ガス(CO ₂ )等が挙げられる。これらは、単独でまたは2� ��以上を混合して用いられる。

 スパッタリングの条件は、成膜する膜の� ��類、厚さ等により適宜決定されうる。光触� ��活性層の製造における成膜時の圧力は、グ� ��ー放電が安定に行われる圧力であればよく� ��スパッタガスや反応性スパッタガスに由来� ��て系内に生成するイオン(酸素イオン、反跳 アルゴン等)の衝突による光触媒活性層への� �メージを減らして防汚性および防曇性に優� �た光触媒活性層を安定に形成することがで� �るという観点から、1Pa以上であるのが好ま� �い。

 つぎに、光触媒活性層形成工程後に、オ� ��バーコート層形成工程において、光触媒活� ��層の上にオーバーコート層を積層させる。� ��ーバーコート層を形成する方法としては、� ��えば、スパッタリング法、CVD法、湿式法(ス プレー法など)等が挙げられる。なかでも、� �面積の基板に層を形成する際に、膜厚の均� �性に優れるという観点から、スパッタリン� �法が好ましい。スパッタリング法は、上記� �同義である。

 酸化タンタル層の製造においては、例え� ��、ターゲットとしてTaを用い、スパッタガ� �として酸素原子を含むガスを含有するガス� �囲気中で反応性スパッタリング法を行う方� �が好適に挙げられる。

 酸化スズ層の製造においては、例えば、� ��ーゲットとしてSnを用い、スパッタガスと� �て酸素原子を含むガスを含有するガス雰囲� �中で反応性スパッタリング法を行う方法が� �適に挙げられる。

 窒化ケイ素層の製造においては、例えば� ��ターゲットとして多結晶シリコン(ボロンド ープ)を用い、スパッタガスとして窒素原子� �含むガスを含有するガス雰囲気中で反応性� �パッタリング法を行う方法が好適に挙げら� �る。

 酸窒化ケイ素層の製造においては、例え� ��、ターゲットとして多結晶シリコン(ボロン ドープ)を用い、スパッタガスとして窒素原� �を含むガスおよび酸素原子を含むガスを含� �するガス雰囲気中で反応性スパッタリング� �行う方法が好適に挙げられる。

 二酸化ケイ素層の製造においては、例え� ��、ターゲットとして多結晶シリコン(ボロン ドープ)を用い、スパッタガスとして酸素原� �を含むガスを含有するガス雰囲気中で反応� �スパッタリングを行う方法が好適に挙げら� �る。

 窒化ケイ素層、酸窒化ケイ素層および二� ��化ケイ素層の製造において用いるターゲッ� ��は、上述のボロンドープ多結晶シリコンタ� ��ゲットに限定されず、例えば単結晶シリコ� ��や、シリコンとSiCの焼結体であってもよく� ��また、ドーパントは、ボロンに限定されず� ��ルミニウム、リン等であってもよい。

 ケイ素とスズを含む酸化物層の製造にお� ��ては、例えば、ターゲットとしてシリコン� ��スズとの混合ターゲットを用い、スパッタ� ��スとして酸素原子を含むガスを含有するガ� ��雰囲気中で反応性スパッタリング法を行う� ��法が好適に挙げられる。

 ケイ素とスズを含む酸化物は、ケイ素原� ��とスズ原子と酸素原子とを含む酸化物であ� ��ば特に制限されない。酸化物におけるケイ� ��原子およびスズ原子を合計した濃度は、親� ��性に優れるという観点から、酸化物に含ま� ��るケイ素原子および金属原子(金属原子はス ズ原子を含む。)の合計量Aに対して80~100原子% であるのが好ましく、90~100原子%であるのが� �り好ましい。

 ケイ素とスズを含む酸化物層に含まれる� ��イ素原子の濃度は、親水性に優れるという� ��点から、酸化物に含まれるケイ素原子およ� ��スズ原子の合計量Bに対して5~95原子%である� ��が好ましく、35~95原子%であるのがより好ま� ��く、40~75原子%であるのが特に好ましい。

 スパッタリングの条件は、成膜する膜の� ��類、厚さ等により適宜決定される。オーバ� ��コート層の製造における成膜時の圧力は、� ��ロー放電が安定に行われる圧力であればよ� ��。

 また、本発明の防汚性物品がトップコー� ��層を有する場合は、光触媒活性層およびオ� ��バーコート層を形成した後に、オーバーコ� ��ト層の上にトップコート層を形成し、光触� ��活性層およびオーバーコート層の上にトッ� ��コート層を積層させる。

 また、アルカリバリヤ層を有する場合は� ��光触媒活性層を形成する前に、ガラス基板� ��表面にアルカリバリヤ層を形成すればよい� ��これらの層を形成する方法としても、例え� ��、スパッタリング法、CVD法、湿式法(スプレ ー法など)等が挙げられ、大面積の基板に層� �形成する際に、膜厚の均一性に優れるとい� �観点から、スパッタリング法が好ましい。� �パッタリング法については、上記と同義で� �る。スパッタリングの条件は、成膜する膜� �種類、厚さ等により適宜決定される。

 酸化物層の製造における成膜時の圧力は� ��グロー放電が安定に行われる圧力であれば� ��く、防汚性および防曇性により優れ、スパ� ��タガスや反応性スパッタガスに由来して系� ��に生成するイオン(酸素イオン、反跳アルゴ ン等)等の衝突による光触媒活性層または酸� �物層へのダメージを減らして安定した性能� �有する光触媒活性層および酸化物層を形成� �ることができるという観点から、1Pa以上で� �るのが好ましい。

 なお、本発明の防汚物品の製造方法にお� ��て、光触媒活性層形成工程およびオーバー� ��ート層形成工程を行った後、または光触媒� ��性層形成工程、オーバーコート層形成工程� ��よびトップコート層形成工程を行った後で� ��られた防汚性物品を、例えば630~700℃に加熱 して曲げ加工や強化加工を行うことができる 。曲げ加工や強化加工を行う際の熱により、 光触媒活性層の触媒活性が向上するので好ま しい。また、曲げ加工や強化加工があらかじ め施されたガラス基板に光触媒活性層を形成 することもできる。

 本発明の防汚性物品について添付の図面� ��用いて以下に説明する。なお、本発明の防� ��性物品は添付の図面に示すものに限定され� ��い。図3、図4は、本発明の防汚性物品の一� �の断面を模式的に示す断面図である。

 図3において、防汚性物品500は、ガラス基板 501の上に光触媒活性層503を積層し、光触媒活 性層503の上にオーバーコート層505を積層して いる。
 図4において、防汚性物品600は、ガラス基板 601の上に光触媒活性層603を積層し、光触媒活 性層603の上にオーバーコート層605を積層し、 オーバーコート層605の上にトップコート層607 を積層している。

 本発明の防汚性物品は、有機物等がオー� ��ーコート層の表面に付着、吸着しにくいこ� ��から、オーバーコート層によって、汚れの� ��積を防止することができて、それにより防� ��性を長時間維持することができる。さらに� ��防汚性物品が高湿度環境におかれたときに� ��面に曇りを生じやすくなることを抑制する� ��果(防曇性)や、水の接触角を小さくするこ� �ができ親水性が高く(超親水性)、水の付着等 によって生じる曇りを抑制する効果に優れ、 長時間に亘って高い防曇性を維持することが できるものである。

 本発明の防汚性物品は、例えば、自動車� ��の窓ガラス、建築用窓ガラス、各種産業用� ��ガラス、鏡等として使用することができる� ��防汚性物品の厚さは特に制限されず例えば0 .4~10mmとすることができる。

 本発明の防汚性物品は、オーバーコート� ��が形成されている面を室内側または車内側� ��面になるように設置すること、室外側また� ��車外側の面になるように設置すること、の� ��ずれも好ましく、用途によって使い分けれ� ��よい。また本発明の防汚性物品を鏡として� ��用することも好ましい。

 次に、本発明の合わせガラスについて説明� ��る。本発明の合わせガラスは、第1のガラス 基板と、光触媒活性層、オーバーコート層お よびトップコート層を含む第2のガラス基板� �、前記第1のガラス基板と前記第2のガラス基 板との間に介在された中間膜とを備え、前記 第2のガラス基板が室内側に配される合わせ� �ラスであって、前記第2のガラス基板が本発� ��の防汚性物品である合わせガラスである。
 この合わせガラスにおいては、第2の基板は 、光触媒活性層、オーバーコート層およびト ップコート層が形成されていない面と中間膜 とが接するようにして配置される。

 本発明の合わせガラスに用いられる第2のガ ラス基板は、上述の説明では光触媒活性層、 オーバーコート層およびトップコート層を含 む構成としたが、本発明の防汚性物品であれ ばこれに制限されない。
 光触媒活性層は、可視光に対する応答性を� ��することから窒素ドープされた酸化チタン( 以下、TiO ₂ :Nともいう)が好ましい態様の1つとして挙げ� �れる。

 本発明の合わせガラスに用いられる中間� ��は特に制限されない。中間膜の材料として� ��、例えば、ポリビニルブチラール等が挙げ� ��れる。中間膜の厚さは特に制限されず、例� ��ば、0.3~0.8mmとすることができ、通常は0.76mm� ��ある。

 本発明の合わせガラスに用いられる、防汚� ��物品以外のガラス板は特に制限されず、例� ��ば、透明または着色のフロートガラス(フロ ート法で製造されたガラス)、着色させた熱� �吸収ガラスが挙げられる。また、強化ガラ� �を用いることができる。具体的には、ソー� �ライムガラスに鉄イオン等の着色成分を含� �させた熱線吸収ガラスが好適に用いられる� �ガラス板の厚さは特に制限されず、例えば� �1.5~3.0mmとすることができる。
 本発明の合わせガラスは、その製造につい� ��特に制限されない。例えば、従来公知のも� ��が挙げられる。

 本発明の合わせガラスについて、本発明の� ��わせガラスの一例の断面を模式的に示す図5 を用いて以下に説明する。なお、本発明の合 わせガラスは添付の図面に示すものに限定さ れない。
 図5において、本発明の合わせガラス700は、 第2のガラス基板(本発明の防汚性物品)701と中 間膜709と第1のガラス基板711とを具備する。

 第2のガラス基板701は、ガラス基板713の一 方の基板面上に、光触媒活性層703、オーバー コート層705およびトップコート層707が積層さ れている。第2のガラス基板701は、ガラス基� �713の他方の面において、中間膜709を介して� �1のガラス基板711と積層されている。

 本発明の合わせガラスは、例えば、自動� ��用窓ガラス、建築用窓ガラス、各種産業用� ��ラス等として使用することができる。本発� ��の合わせガラスは、光触媒活性層が形成さ� ��ている面を室内側または車内側の面になる� ��うに設置すること、室外側または車外側の� ��になるように設置すること、のいずれも好� ��しく、用途によって使い分ければよい。例� ��ば、本発明の防汚性物品を自動車用の窓ガ� ��スとして用い、雰囲気中の有機物を分解す� ��効果や防曇効果を得る場合には、光触媒活� ��層が形成されている面を車内側の面になる� ��うに配置することが好ましい。