GEÄNDERTE ANSPRÜCHE

beim Internationalen Büro eingegangen am 14. April 2020 (14.04.2020)

1. Anordnung (AN) von konduktionsgekühlten Wanderfeldröhren (WR), umfassend mehrere auf einer gemeinsamen Basisplatte (BP) montierte Wanderfeldröhren (WR),

wobei die Wanderfeldröhren (WR) mit der Basisplatte (BP) thermisch so verbunden sind, dass die Basisplatte (BP) beim Betrieb der Wanderfeld röhren (WR) eine Wärmesenke gegenüber den Wanderfeldröhren (WR) bildet,

und die Basisplatte (BP) ausgebildet ist, um bezüglich ihrer Abmessungen (LE, BG) mehrere Wanderfeldröhren (WR) entlang ihrer Strahlach sen (SA) aufzunehmen,

wobei ein Abstand (X2) zwischen den Strahlachsen (SA) benachbarter Wanderfeldröhren (WR) derart zur Steigerung einer Anzahl an Wander feldröhren pro Flächeneinheit der Basisplatte (BP) reduziert ist, dass be nachbarte Wanderfeldröhren (WR) innerhalb ihrer gegenseitigen magne tischen Beeinflussung angeordnet sind, wobei die gegenseitige magneti sche Beeinflussung bei der Einstellung einer magnetischen Fokussie rung der Wanderfeldröhren (WR) berücksichtigt ist.

2. Anordnung nach Anspruch 1 , bei der ein Abstand zwischen den Strahl achsen (X2) benachbarter Wanderfeldröhren (WR) auf der gemeinsamen Basisplatte (BP) geringer ist als ein Abstand (X1 ) zwischen den Strahlachsen (SA) von Wanderfeldröhren (WR) auf jeweils einer eigenen Basisplatte (BP).

3. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, bei der die mehreren Wanderfeldröhren (WR) auf einer gemeinsamen Basisplatte (BP) mit ei nem gemeinsamen Hochspannungskabel (SV) verbunden sind.

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4. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der die mehreren Wanderfeldröhren (WR) auf einer gemeinsamen Basisplatte (BP) eine gemeinsame magnetische Abschirmung aufweisen.

5 5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der ein Abstand (X2) zwischen Strahlachsen (SA) benachbarter Wanderfeldröhren (WR) auf der gemeinsamen Basisplatte (BP) zwischen 100 mm und 40 mm be trägt. o 6. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die Anzahl an

Wanderfeldröhren (WR) pro Flächeneinheit der Basisplatte (BP) im Ver gleich zu Wanderfeldröhren (WR) auf jeweils einer eigenen Basisplatte (BP) um einen Faktor bis zu 2 gesteigert ist. 5 7. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der die Wanderfeld röhren (WR) bezüglich ihrer Strahlachse (SA) parallel angeordnet sind.

8. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der die Wanderfeld röhren (WR) bezüglich ihrer Strahlachsen (SA) antiparallel angeordnet0 sind.

9. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, deren Basisplatte (BP) eine im Vergleich zu einer Basisplatten (BP) zur Aufnahme jeweils einer einzelnen Wanderfeldröhre (WR) größere Höhe aufweist.

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10. Konduktionsgekühlte Wanderfeldröhre (WR) zur Verwendung in einer Anordnung (AN) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, derer Elektronen strahlfokussierung die magnetische Wechselwirkung benachbarter Wanderfeldröhren (WR) bei der Anordnung auf einer gemeinsamen Basis-ö platte (BP) berücksichtigt und derer die Strahlachse (SA) umgebende

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Bauteile bezüglich ihrer Abmessungen derart reduziert sind, dass sich nebeneinander angeordnete Wanderfeldröhren (WR) innerhalb der mag netischen Beeinflussung der benachbarten Wanderfeldröhre (WR) befin den.

1 1. Basisplatte zur Verwendung in einer Anordnung (AN) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, die bezüglich ihrer Abmessungen (LE, BG) zur Auf nahme von mehreren konduktionsgekühlten Wanderfeldröhren (WR) ge eignet ist, wobei die Basisplatte (BP) thermisch mit den Wanderfeldröh ren (WR) verbindbar ist und die Fläche der Basisplatte (BP) dadurch kleiner ist als eine Gesamtfläche einzelner Basisplatten (BP) mit jeweils einer eigenen konduktionsgekühlten Wanderfeldröhre (WR), dass eine Breite (BG) der Basisplatte (BP) so gewählt ist, dass die auf der Basis platte (BP) angeordneten Wanderfeldröhren (WR) sich innerhalb ihrer gegenseitigen magnetischen Beeinflussung befinden.

12. Basisplatte (BP) nach Anspruch 1 1 , deren Höhe im Vergleich zu einer Basisplatte (BP) zur Aufnahme jeweils einer einzelnen konduktionsge kühlten Wanderfeldröhre (WR) größer ist.

13. Verfahren zur Herstellung einer Anordnung von mehreren konduktionsgekühlten Wanderfeldröhren (WR) auf einer gemeinsamen Basisplatte (WR) umfassend die Schritte:

- Bereitstellen von mehreren konduktionsgekühlten Wanderfeldröhren (WR),

- Bereitstellen einer Basisplatte (WR) die geeignet ist die mehreren Wanderfeldröhren (WR) aufzunehmen,

- Anordnen der Wanderfeldröhren (WR) auf der Basisplatte (BP), sodass sich die Wanderfeldröhren (WR) und die Basisplatte (BP) in thermischen Kontakt befinden, und

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- Einstellen der Elektronenstrahlfokussierung einer jeden Wanderfeldröh re (WR) unter dem magnetischen Einfluss der anderen Röhren.

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